アステック

新宿区高田馬場4丁目,  東京都 
Japan
http://www.astechcorp.co.jp
  • 小間番号4812


国内の半導体産業創成期から、最新の製品を提供している当社は、第1回のセミコンジャパンから40年連続出展している一社です。

プラズマアプリケーションに対するトータルサプライヤとして、豊富な製品ラインアップを

取り揃えて皆様のご来場をお待ちしております。 


《プラズマ励起用各種電源》

業界トップクラスの製品群から、ニーズに応じた出力や波形をお選びいただけます。

DC電源】500W60kW、小出力から大出力まで豊富な出力レンジ

DCパルス】電源:500W40kW、幅広い周波数範囲

DCパルスコントローラー】3kW30kW、幅広い周波数範囲、様々な出力波形、

                                         HiPIMSに対応

【常圧放電用高圧電源】誘電体バリア放電/プラズマジェットに対応

【高周波電源】50kHz60MHz150W20kW、豊富な出力レンジと出力周波数

【自動整合器】高速・高精度、広い整合範囲、ニーズに応じたカスタマイズ設計

【周辺機器】フェイズシフター、DC/RF重畳用各種フィルター等

 

《大気圧プラズマ表面処理装置》

セミコンジャパン2016の開催期間中、当社ブース(4812)にて実機のデモを行います。

【大気圧プラズマ表面処理装置】RFArガスを使った大気圧プラズマ表面処理装置

です。

プラズマ発生部の直下にワークを通過させるだけで、高速かつ効果の高い表面処理

実現出来ます。

表面処理加工を試したい材料(A4サイズまで)をお持ちいただき、ぜひご来場ください。

 

《各種測定器》

様々な用途でご利用いただける各種測定器をご用意しています。

【光ファイバー温度計】強電磁界に強い、高精度、非常にフレキシブルな光ファイバー

【抵抗率計】専用四端子プローブを使用、幅広い測定レンジ、短時間で正確な測定

【エンドポイントディテクタ】CCDセンサ搭載の高感度OES、卓越したアルゴリズム、

                                多様なインターフェイス、エッチングの他イオンミリングにも対応


 出展製品

  • 大気圧プラズマ表面処理装置GENESISシリーズ
    RFとArを使った大気圧プラズマ表面処理装置です。 プラズマ発生部の直下にワークを通過させるだけで、高速かつ効果の高い表面処理が実現出来ます。...

  • セミコンジャパンの開催期間中、当社ブース(4812)で実機のデモを行います。

    お試しになりたいお客様の材料(A4サイズまで)を、その場で表面処理します。

    ぜひ、サンプルをお持ちいただき、ご来場ください。

     

    【特長】

    ・真空設備が不要な大気圧プラズマプロセス

    ・プラズマ発生には、RFとアルゴンガスを使用

    ・フィルムやガラス、基板等の親水性、塗工性を劇的に改善

    ・貼り合わせ/接着性の向上、表面クリーニング、前処理等に

    ・アーク放電はほとんど無く、微細パターンもダメージ無く処理が可能

    ・大型の材料に対応、最大幅は1600mm

    ・オゾン、窒素酸化物の発生は極微量で、除害設備が不要

    ・プラズマ発生部はシンプルな構造で、生産ラインへ容易に取付けが可能

 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
Yes
製品展示/Displaying Equipment
Yes
デモンストレーション/ Product Demonstrations
Yes
産業・技術分野/ Industries/Technologies
LED/solid state lighting, その他/Other, 太陽光発電(PV)/Photovoltaic, 半導体/Semiconductor