クレステック

Owadamachi Hachioji-shi,  Tokyo 
Japan
http://www.crestec8.co.jp
  • 小間番号4204


電子線描画装置メーカーのクレステックです。受託描画サービスも行っております。お気軽にお立ち寄りくださいませ。

We are glad to present the user-friendly operation of our EB lithography system CABL-9000C. EB Mastering System (CEBR) and CABL-UH (130kV) have become available for sale. Also, we are offering EB fabrication services.


 出展製品

  • 電子線描画装置 CABL-UH (130kV) series
    高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。 ビーム径:1.6nmΦ以下 最小線幅:5nm以下 加速電圧:130kV, 110kV, 90kV ステージ:8インチ対応 ...

  • 電子線描画装置においては、長時間安定した高電圧による電子線が必要です。そのためには微小放電が限りなくゼロでなければなりません。しかし高電圧には放電現象がつきもので、微小放電はどうしても発生してしまいます。クレステックはその微小放電がほとんど発生しない構造の鏡筒を新たに開発し、長時間安定稼動を実現しました。

    130kVの加速電圧は1段加速で生成し、従来の多段加速による電子銃よりも短い構造となっています。この1段加速の設計により、低収差でクーロンぼけの少ない電子光学系が実現しました。結果として、従来よりも大電流で高解像度の描画が可能となったのです。また130kVの高加速描画は50kVと比べると、レジスト内の電子線の前方散乱が少なく、より微細な加工が可能となります。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
No
製品展示/Displaying Equipment
No
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
MEMS, 半導体/Semiconductor
上記以外の分野/Other categories
光通信デバイス