ナノメトリクス・ジャパン

品川区,  東京都 
Japan
http://www.nanometrics.com
  • 小間番号5021

光学式測定・検査装置専業メーカーであるNanometrics社は、幅広い計測技術により様々なデバイスのプロセス管理をサポートいたします。

Si半導体のみならずSiC/GaNデバイスを含め、先端ロジック・メモリー用途からSSDやHHD等のストレージデバイス、そして高輝度LEDやパワーデバイスを含むディスクリートデバイスの歩留まり管理に貢献いたします。

先端デバイス向けではOCD測定によりCD管理のみならずプロファイル測定や、膜厚および膜質コントロールを提供します。

また、次世代先端レベルパッケージ用途では、ウェハオーバーレイやTSV深さ測定などのバックエンド向けのプロセス管理も提供しています。


 出展製品

  • ATLAS III
    全自動多機能OCD&膜厚測定装置...

  • Atlas IIIはNanometrics社の最新世代としてリリースされた、300mm量産ライン対応スタンドアローン型アドバンスド・メトロロジーシステムです。薄膜、積層膜およびOCDパターン寸法測定に対応し、高い能力でプロセスコントロールを支援します。

    光学系コンポーネンツ、ステージ位置精度、ソフトウェア機能の刷新により、Atlas III OCDシステムは1xnm世代などの複雑な先端デバイス構造の測定をも可能にします。

  • IMPULSE+
    製造装置組込型OCD&膜厚測定装置...

  • IMPULSE+シリーズは各種半導体製造装置に組込み可能なメトロロジーシステムです。製造装置に組込むことで欠陥プロセスの迅速なフィードバックを可能にし、工場全体の処理能力に貢献します。

    ロードポートに組込めるコンパクトな設計ながら、最新の高額設計を取り入れ、従来のスタンドアローン装置に匹敵する正確さと精度を持ち合わせています。

    DUVの光学系により薄膜に対応しているだけでなく、積層膜の同時測定やパターン寸法測定(CD, Height, SWA)、そして膜質解析の能力を持ち合わせています。

    業界最高のスループットにより、製造装置側への影響を与えることなくPre/Postの測定を実現します。

    また、Nanometrics社の搬送フロントエンドモジュール"LynX"と組み合わせることで、全自動高速OCD&膜厚測定装置として機能します。

  • QS3300 LynX
    高精度300mm用FT-IRシステム...

  • QS3300はシリコンウェハ量産ライン対応の自動搬送機能付きFT-IRシステムです。

    非破壊・非接触で高精度な炭素/酸素濃度測定およびエピタキシャル膜厚測定等の検査で最先端デバイス向けシリコンウェハの品質向上に貢献しております。

  • NanoSpec II
    分光反射率式膜厚測定システム...

  • 全波長領域に対して物質の屈折率(n)と消衰係数(k)を考慮する「波長分散モデル」による解析を併用することで、より精度の高い膜厚測定が可能な分光反射率式膜厚測定システムです。用途に応じて卓上型、もしくはロボットローダー付きの全自動型から選択可能です。
  • RPMBlue ・ VERTEX
    高速フォトルミネッセンス・欠陥マッピングシステム...

  • 半導体ウェハ全面のフォトルミネッセンスを、素早く高分解能でマッピングするシステムです。業界最速のスループットは、全数検査で歩留まり向上に貢献し、多くの機能は様々な製品の開発に効果と価値を提供します。ラインナップは2種あり、用途・アプリケーションに応じて選択することが出来ます。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
Yes
製品展示/Displaying Equipment
No
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
LED/solid state lighting, MEMS, 太陽光発電(PV)/Photovoltaic, パワー半導体/Power Semiconductors, 半導体/Semiconductor