ニューメタルスエンドケミカルスコーポレーション

Chuoku,  Tokyo 
Japan
http://www.newmetals.co.jp/
  • 小間番号1324


フォトレジスト材を中心とした各種材料、ワイヤーソーを中心とした各種加工装置など、半導体産業に欠かせない商品群をご紹介。

◆ダイヤモンドワイヤーソー: 研究向けの卓上シングルワイヤソーCS203を展示する他、生産向けの中型~大型のシングルワイヤーソー、小型のマルチワイヤーソーを紹介。新製品の大型シングルワイヤーソーCR750は、高さ1,100mm(直径750mm)までの大口径サンプルの切断に対応。最大ワイヤー線速、最大ワイヤーテンションが大きく、従来機に比べて切断時間を大幅に短縮。

◆ダイヤモンドワイヤー: 芯線径100μm~400μmの各種ダイヤモンドワイヤーを紹介。砥粒サイズ、砥粒密度の変更により、用途に応じた最適なダイヤモンドワイヤーを提案。

◆フォトレジスト、エッチング用各種フッ素化合物: Halocarbon社(米国)はHFA、TFACを出発原料とした各種フッ素系モノマーの老舗フッ素製造メーカー。さらなる微細化が進む半導体用フォトレジスト、エッチングの高付加価値化に寄与する各種フッ素系モノマー商品を紹介。ご要望に応じたフッ素化合物のカスタム相談も可能。

◆SiC基板/SiCインゴット: SiC基板(N-type 4H 2inch,3inch,4inch,6inch/6H  2inch ; Semi –Insulating 6H  2inch/ 4H  3inch)、及びSiCインゴット(N-type 4H  2inch,3inch,4inch,6inch)をご紹介致します。目玉商品としまして、今年開業した新工場で生産しましたN-type 6インチ基板を展示致します。

◆ナノダイヤモンド一次粒子分散体「ナノアマンド」: 「ナノアマンド」とは爆轟法ナノダイヤモンド凝集体を一切の添加剤を用いず一次粒子に完全分散、安定化させた製品です。粒径は3~4ナノの一桁ナノで、圧倒的個数効果により、ナノコンポジット、CVD結晶成長核、潤滑添加剤、超精密研磨、複合メッキ、蛍光発光素子、DDS等、用途展開中。

◆グラフェン: CVDグラフェン膜(単層、複層)をはじめ、数層~数十層のナノ厚グラフェンプレートレット粉末及び水溶液、酸化グラフェン(水溶液、乾粉)、端部修飾型高導電性GO粉末、延いてはグラフェン以外の二次元結晶等、選別された多種多様な高品質グラフェン素材を取り揃えています。

◆SEM用イオンミリング装置: EBSD分析、断面研磨、3次元半導体の表層除去(デレイヤリング)など、幅広い用途で利用出来るSEM試料作成用イオンミリング装置を紹介。3次元NANDなど半導体の3次元化が進んでいる昨今、欠陥分析の前処理装置として、高い注目を集める商品です。イオンガンを2つ装備し、ビーム径も約2mmと幅広の為、高スループットでの試料作成が可能。各種アプリケーションンノートを配布予定。

◆原子層堆積装置(ALD装置): 研究・開発用途に最適な、小型のALD(Atomic Layer Deposition)装置を紹介。CVDなどの従来の成膜手法に比べて、ピンホール等の欠陥のない、均一で高品質の成膜が可能。カスタマイズし易い装置構成で、手頃な価格帯の為、実験機として最適。


 出展製品

  • ダイヤモンドワイヤーソー
    研究開発用途から生産用途まで、幅広いラインナップのワイヤーソーをご紹介致します。 ...

  • ・大型サンプル用シングルワイヤーソー:CR750
    ・小型サンプル用シングルワイヤーソー:RTDシリーズ
    ・小型サンプル用マルチワイヤーソー:RTDシリーズ
    ・研究開発用卓上シングルワイヤーソー:CSシリーズ(デモ機展示)
  • イオンミリング装置
    SEMサンプル用、TEMサンプル用、FIBサンプル用の各種イオンミリング装置をご紹介致します。...

  • ・SEM MILL モデル1060:

    走査型電子顕微鏡(SEM)観察用の試料を作成する為の、イオンミリング装置です。

    2つのイオンガンを装備しており、高いスループットを実現いたします。

    EBSD観察の為の前処理や断面試料の作成はもちろん、三次元構造物の表面層除去などにもご利用頂けます。

    ・TEM MILL モデル1050:

    透過型電子顕微鏡(TEM)観察用の試料を作成する為の、イオンミリング装置です。

    100eV~6keVまでの広範な加速電圧に対応しており、100eVでもシャープなビームを得られる事が特徴です。

    ・NANO MILL モデル1040:

    SIM画像を見ながら目的の場所をピンポイントでイオンミリングする装置です。収束イオンビーム(FIB)により発生した表面のダメージ層を除去出来ます。

    ビーム径が1μmと非常に絞られておりますので、リデポの心配がありません。

     

     

     

  • ALD(原子層堆積)装置
    研究開発用途に最適な、コンパクトなALD装置をご紹介致します。 CVDに比べて、高品質で緻密な薄膜を作成することが可能です。...

  • 研究開発用途に最適な、コンパクトで柔軟性の高いALD装置です。メーカーのCTECH社は、ALD装置の設計/製造だけでなく、新たな成膜プロセスの開発、各種コーティングサービスも行っております。ナノサイエンス、ナノテクノロジーの研究を専門とする著名なリサーチセンターと協力関係にあり、原子層堆積に関する豊富な経験とノウハウを有する企業です。成膜手法にお困りの方、新たな成膜手法をご検討の方は、是非お立ち寄り下さい。

     

  • フォトレジスト、エッチング用各種フッ素化合物
    Halocarbon社(米国)製の各種フッ素系モノマーをご紹介致します。さらなる微細化が進む半導体用フォトレジスト、エッチングの高付加価値化に欠かせない製品です。...

  • Halocarbon社(米国)はHFA、TFACを出発原料とした各種フッ素系モノマーの老舗フッ素製造メーカーです。ブースでは、さらなる微細化が進む半導体用フォトレジスト、エッチングの高付加価値化に寄与する各種フッ素系モノマー商品を紹介致します。ご要望に応じたフッ素化合物のカスタム相談も承っておりますので、是非お立ち寄り下さい。
  • SiC基板/SiCインゴット
    各種SiC基板、SiCインゴットの展示及び紹介を致します。...

  • SiCは高温高電圧向けパワーデバイスや光デバイス(LED・レーザー用途)に適した材料です。展示会では、下記のSiC基板及びSiCインゴットをご紹介致します。

    SiC基板: N-type 4H 2inch,3inch,4inch,6inch/6H  2inch ; Semi –Insulating 6H  2inch/ 4H  3inch

    SiCインゴット: N-type 4H  2inch,3inch,4inch,6inch

    目玉商品としまして、今年開業した新工場で生産しましたN-type 6インチ基板を展示致します。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
No
製品展示/Displaying Equipment
Yes
デモンストレーション/ Product Demonstrations
Yes
産業・技術分野/ Industries/Technologies
MEMS, プラスチック/有機/プリンテッドエレクトロニクス/Plastic/organic/flexible electronics, パワー半導体/Power Semiconductors, 半導体/Semiconductor