PICOSUN JAPAN

品川区,  東京 
Japan
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  • 小間番号3428

PICOSUN JAPANMEMSデバイスの生産において近年特に重要視されている成膜技術であるALD(アトミックレイヤーデポジション)成膜装置をご案内させていただきます。

ALDは既存のPVDCVD、蒸着等の成膜技術より下記の点において優れている為に、急速に市場に浸透してきております。

段差被覆性に優れている

膜厚が1原子層レベルで制御でき、膜厚分布が良い

バリア性が高く膜質が良い

低温(e.g.100℃)でも成膜できる

 

PICOSUN JAPANALD専業装置メーカーであるフィンランドPicosun社の日本法人です。ALD法はDr.Tuomo Suntolaによって発明され(Picosun社役員、技術顧問)、装置設計は40年以上、15世代に渡っており、ALDの歴史そのものと言っても過言ではありません。装置は研究開発用から量産機、クラスター装置等幅広いラインナップとなっており、デバイス開発のサポートから量産まで幅広く対応させていただいております。貴社のお役にたてれば幸いです。お問い合わせお待ちしております。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
Yes
新製品/New Products
No
製品展示/Displaying Equipment
No
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
MEMS, プラスチック/有機/プリンテッドエレクトロニクス/Plastic/organic/flexible electronics, パワー半導体/Power Semiconductors, 半導体/Semiconductor