兵庫県立大学 工学研究科電子情報工学専攻

姫路市,  兵庫 
Japan
  • 小間番号1214

ガスクラスターイオンビーム(GCIB)は、数千個のガス原子・分子が結合したクラスターを加速して照射する技術であり、我々の研究グループによる開発が進められてきた日本発の技術です。GCIBは、一原子・分子あたりのエネルギーを数eVに低減できるため、低損傷加工、高精度表面加工、高品位薄膜形成技術、表面計測技術に応用が進んでいます。また、反応性雰囲気ガスを導入すると、GCIBによる高温・高密度状態の形成により吸着した反応性雰囲気ガスと表面との反応が促進されます。さらに、GCIBは表面を低損傷でスパッタリングできることから、表面活性化接合(SAB)への応用も検討しています。本展示では、雰囲気ガス下でのGCIB照射を用いた低温・ハロゲンフリーエッチング技術やGCIBによる表面活性化接合を紹介します。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
Yes
新製品/New Products
No
製品展示/Displaying Equipment
No
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
半導体/Semiconductor