兵庫県立大学 半導体材料・デバイス学研究グループ

Himeji,  Hyogo 
Japan
  • 小間番号1311

高輝度軟X線源を利用した新規半導体プロセスの開発(非晶質半導体膜の低温結晶化、Si中不純物の低温活性化)、原子状水素を用いたGe薄膜トランジスタの特性改善、2次元材料(グラフェン)の新規作製法についてポスター展示いたします。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
Yes
新製品/New Products
No
製品展示/Displaying Equipment
No
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
プラスチック/有機/プリンテッドエレクトロニクス/Plastic/organic/flexible electronics, 半導体/Semiconductor