Levitronix Japan

台東区,  東京都 
Japan
http://www.levitronix.com/ja
  • 小間番号5636

レビトロニクスは半導体産業で使用される超高清純度ポンプ及びミキサの世界的なマーケット・リーダです。レビトロニクスの製品には他社の追従を許さない革命的な磁気浮上技術が採用されており、これにより非接触でパーテイクル・フリーの機能を実現しております。機械的な摩耗を一切生じないのでレビトロニクスのポンプはスラリ処理、金属メッキ処理、ウエットクリーニング・エッチング、並びに高清純度流体移送及び供給システム用途に理想的なポンプであります。そして、流量と圧力を正確に電子制御しながら連続フロ―の供給ができるポンプでもあります。

レビトロニクスのポンプはパーテイクルの発生や金属汚染を極限までに抑制することが必要とされる高清純度流体処理の為に設計されたポンプであります。独立した研究所が行った試験でレビトロニクスのポンプからのパーテイクルの発生はダイヤフラムポンプと比較して遥かに少ないことが証明されております。CMPスラリでのレビトロニクス、ベローズ、ダイヤフラム各ポンプ間の比較テストではウエーハのスクラッチや損傷の原因となりかねないパーテイクルがレビトロニクスポンプの場合、他タイプの200-1000分の1しか発生しないという結果が出ております。

レビトロニクスのポンプは下記の液体移送で市場占有率トップ:

  • CMP スラリ供給装置
  • ウエハ枚葉洗浄装置
  • 電気化学式析出装置(メッキ液)
  • 純水昇圧装置


 出展製品

  • BPS Series
    BPSポンプシステムは摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的な遠心ポンプです。...

  • 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます 。

    インペラとケーシングは、共に耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石と共にポンプヘッドを構成しています。

    流量と吐出圧は、インペラの回転数を電子回路によりコントロールすることにより、正確に制御されますので脈動がありません。クローズドループの流量或は圧力制御システムは流量或は圧力センサを追加使用することにより簡単に構築可能です。その他、以下の節で説明があるように様々なシステムの構成が可能です。

     

    システムの利点

    • 機械的に接触する部分がないので、パーティクルの発生が極めて少ないです。
    • 装置のアップタイムを高められます。
    • バルブ、軸受、軸封等が使われていないので、費用のかさむ定期的な分解修理が不要、維持費がかかりません。
    • 磁気軸受デザインなので、汚染リスクがないです。
    • 剪断等で影響を受けやすい流体に対し、穏やかなポンプです。
    • 狭い隙間や溝がないシンプルな構造で、液体の残渣等がポンプケーシング内に滞留しません。
    • 脈動が無い、スムースな定常流を得られます。
    • 電子的に回転数をコントロールできます。
    • エア駆動ベローズポンプ、遠心式マグネットポンプより小型です。
    • 医療及び半導体業界で実績のあるオリジナル技術を採用しています (平均故障間隔 /MTBF> 50年)。

     

    用途

    • 半導体ウェットプロセス (洗浄、CMP等)
    • PCB、電子部品メッキ
    • 太陽電池製造
    • FPD製造
    • ハードディスク基板製造
    • 印刷用インク、研磨液
    • 化学薬品製造、製薬・医薬製造
    • EL薬品/ファインケミカル製造
    • 超純水の昇圧ブースター

     

    現在のラインアップ

    最大吐出量    最高吐出量
    BPS-200 0.26 MPa 21 liters/min
    BPS-600 0.32 MPa 75 liters/min
    BPS-2000 高圧型 0.69 MPa 80 liters/min
    BPS-2000 大流量型    0.42 MPa 140 liters/min
    BPS-4000 0.63 MPa 280 liters/min

  • BPS-4H
    BPS-4Hポンプシステムは摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的で、半導体ウエハ処理プロセス向け高温ウェットプロセス遠心ポンプです。...

  • 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。

    インペラとケーシングは、共に耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石と共にポンプヘッドを構成しています。寿命と性能テストは、高温の硫酸・リン酸とオゾン硫酸及び硫酸過水の混合液で行いました。

    高温の液体によりモータ内の電子部品が過熱しないようにモータには水冷用の冷却ループが付属されています。

    流量と吐出圧は、インペラの回転数を電子回路によりコントロールすることにより、正確に制御されますので脈動がありません。クローズドループの流量或は圧力制御システムは流量或は圧力計を追加使用することにより簡単に構築可能です。その他、以下の節で説明があるように様々なシステムの構成が可能です。

     

    システムの利点

    • 機械的に接触する部分がないので、パーティクルの発生が極めて
    • 少ないです。半導体洗浄プロセスでの微粒子による汚染においては、
    • 他のポンプに比べ10~50倍微粒子の発生が少なくなります。
    • 装置のアップタイムを高められます。
    • バルブ、軸受、軸封等が使われていないので、費用のかさむ定期的な
    • 分解修理が不要、維持費がかかりません。
    • 磁気軸受デザインなので、汚染リスクがないです。
    • 剪断等で影響を受けやすい流体に対し、穏やかなポンプです。
    • 狭い隙間や溝がないシンプルな構造で、液体の残渣等が
    • ポンプケーシング内に滞留しません。
    • 脈動が無い、スムースな定常流を得られます。
    • 電子的に回転数をコントロールできます。
    • エア駆動ベローズポンプ、遠心式マグネットポンプより小型です。
    • 小さな取付面積で設備・装置の省スペース化を実現します。
    • 医療及び半導体業界で実績のあるオリジナル技術を採用しています。

     

    用途

    • 半導体ウエハ処理プロセス向け高温ウェットプロセス
    • 最大180°Cまでの硫酸とリン酸の圧送が可能
    • 最大150°Cまでのオゾン硫酸 (SOM) 又は硫酸過水 (SPM) の圧送が可能

     

    現在のラインアップ

    最大吐出量 最高吐出量
    BPS-4H    0.32 MPa (硫酸)     50 liters/min
  • BPS-i Series
    BPS-iポンプシステムは摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的な小型の遠心ポンプです。...

  • 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます 。

    インペラとケーシングは、共に耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石と共にポンプヘッドを構成しています。コントローラ及びモータはドライバ・ハウジングと一体化されており、ケーブル配線の煩わしさから解放されます。

    流量と吐出圧は、インペラの回転数を電子回路によりコントロールすることにより、正確に制御されますので脈動がありません。クローズドループの流量或は圧力制御システムは流量或は圧力計を追加使用することにより簡単に構築可能です。その他、以下の節で説明があるように様々なシステムの構成が可能です。

     

    システムの利点

    • 機械的に接触する部分がないので、パーティクルの発生が極めて少ないです。
    • 装置のアップタイムを高められます。
    • バルブ、軸受、軸封等が使われていないので、費用のかさむ定期的な分解修理が不要、維持費がかかりません。
    • 磁気軸受デザインなので、汚染リスクがないです。
    • 剪断等で影響を受けやすい流体に対し、穏やかなポンプです。
    • 狭い隙間や溝がないシンプルな構造で、液体の残渣等がポンプケーシング内に滞留しません。
    • 脈動が無い、スムースな定常流を得られます。
    • 回転数又はクローズドループ制御に必要なコントローラが内臓されているので組込み費用が安くなります。
    • 電子的に回転数をコントロールできます。
    • エア駆動ベローズポンプ、遠心式マグネットポンプより小型です。
    • 小さな取付面積で設備・装置の省スペース化を実現します。
    • 医療及び半導体業界で実績のあるオリジナル技術を採用しています (平均故障間隔 /MTBF> 50年)。

     

    用途

    • 半導体ウェットプロセス (洗浄、CMP等)
    • PCB、電子部品メッキ
    • 太陽電池製造
    • FPD製造
    • ハードディスク基板製造
    • 印刷用インク、研磨液
    • 化学薬品製造、製薬・医薬製造
    • EL薬品/ファインケミカル製造
    • レドックスフロー二次電池のような電解液循環

     

    現在のラインアップ

    最大吐出量    最高吐出量
    BPS-i30 0.15 MPa 7.4 liters/min
    BPS-i100    0.16 MPa 20 liters/min
  • BPS-iF Series
    BPS-iF流量コントロールユニットはLevitronix®独自の磁気浮上ポンプ技術と超音波流量の計測技術を融合した製品です。これにより、圧力源としての機能と正確無比な流量コントロールの機能が高度に統合された製品となりました。...

  • ポンプシステムは摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的な遠心ポンプです。磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。

    流量は、既に実績のあるLEVIFLOW®超音波センサ技術により流路を妨げることなく測定されます。

    ポンプヘッド及び流量センサは、耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂から造られています。ポンプコントローラ、モータ及び流量コンバータは、ドライバハウジングと一体になり組み込まれています。このことにより、ケーブル配線及びセットアップに要する労力を格段に減らすことができます。流体流量は、インペラの回転数を精密に電子制御することより、脈動を発生することなく制御されます

     

    システムの利点

    • 高精度、高動特性及び高ターンダウン・レシオ。
    • 外部圧力源を必要としません。
    • 機械的に接触部分がないので微粒子の発生が極めて少ないです。
    • バルブ、軸受、軸封等が使われていないので、費用のかさむ定期的な分解修理が不要、維持費がかかりません。
    • 流量制御に外部接続コントローラが不要な為、組込費用が安いです。
    • 磁気軸受及び超音波技術を盛り込む磁気軸受デザインにより、汚染リスクがないです。
    • 剪断等で影響を受けやすい流体に対し、穏やかなポンプです。
    • 狭い隙間や溝がないシンプルな構造で、液体の残渣等がポンプケーシング内に滞留しません。
    • 圧力脈動の無い滑らかな連続した流量が得られます。
    • 実績のあるポンプ及び超音波流量計測技術ですので安心です。

     

    用途

    • 半導体ウェットプロセス (洗浄、CMP等)
    • PCB、電子部品メッキ
    • 太陽電池製造
    • FPD製造
    • ハードディスク基板製造
    • 印刷用インク、研磨液
    • 化学薬品製造、製薬・医薬製造
    • EL薬品/ファインケミカル製造
    • レドックスフロー二次電池のような電解液循環

     

    現在のラインアップ

    最大吐出量    流量制御レンジ
    BPS-iF30.x-04    0.16 MPa 0 - 4 liters/min
    BPS-i100.x-04    0.20 MPa 0 - 4 liters/min
    BPS-i100.x-08 0.20 MPa 0 - 8 liters/min
    BPS-i100.x-20 0.20 MPa 0 - 20 liters/min
  • Spin Systems
    Levitronix®スピンシステムは摩耗する恐れのある軸受がなく、故障する恐れのあるシールも使用しない、画期的な駆動システムです。...

  • 磁気浮上の原理によって、ロータは浮上し、非接触のまま、モータの磁界によって回転します。ロータ回転数は、精密にコントローラのDSP (デジタル信号プロセッサ) によって制御されます。ロータの加減速及びブレーキ動作は磁界制御により高速に行われます。しかも正確な角度制御も実現できています。

    ロータは、ウエハを固定したり回転する為のウエハチャックを取り付ける為の構造を有しております。即ち、ロータとモータ間の半径方向のギャップはチャンバ壁厚とロータの保護被膜を考慮し広く設計されています。この為、高純度環境化でのウエハ処理に必要とされる独立したクローズドチャンバの設計が可能となっています。

     

    システムの利点

    • 構造上機械的接触部分がないので微粒子発生がありません。
    • 回転軸シールがない。モータ・磁気軸受一体型デザインなので、汚染リスクがないです。
    • チャンバーを積み重ねることができればマルチ処理チャンバー装置の小型化設計が可能であります。
    • 高純度処理のローカル (局部) 制御を可能とするクローズドチャンバの設計が可能。即ち温度、圧力、真空度、湿度及びその他ローカルの
    • 環境処理条件の制御が可能です。
    • ウエハは両面からアクセスが可能である。又、ウエハの着脱及び洗浄処理がし易いです。
    • 装置のアップタイムの増加が可能。機械軸受、回転シールも省かれ、分解修理の必要性も無くなり、アップタイム増加とともに維持費の低減も可能です。
    • 狭い隙間や溝がなく、微粒子を留めることがありません。
    • 電子制御での正確な回転数及び角度コントロールが可能です。
    • 医療用及び半導体業界で実証済の磁気浮上ポンプ技術(平均故障間/MTBF > 50年) がベースとなっています。

     

    用途

    • ウエハ枚葉洗浄
    • レジストスピンコータ
    • RTP高速昇降温炉プロセス
    • クローズドチャンバ構造を必要とする (クロスコンタミを嫌う) 
    • プロセス改善

     

    現在のラインアップ

    ウエハ直径
    LSS-M37    300 mm
    LSS-M52 450 mm

 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
Yes
製品展示/Displaying Equipment
Yes
デモンストレーション/ Product Demonstrations
Yes
産業・技術分野/ Industries/Technologies
半導体/Semiconductor