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半導体製造現場において、「あったら良いな」という計測機器を多数ご準備して、皆様のご来場をお待ちしております。
半導体製造装置製造、半導体製造工程におけるトラブルシューティング、保全で実績のある製品郡のご紹介
表面微粒子計測器「Pentagon : SPD QIII」
ウェーハ/レチクル型ワイヤレス測定器「CyberOptics : WaferSense / ReticleSense」
ISPM「CyberOptics:IPS / Inline Particle Sensor(感度0.1μm)」
液中微粒子計測器「Lighthouse Worldwide solutions: Vertex50, Remote Particle Sensor」
非接触放射温度計「Fluke : Endurance / Mi3」
マイクロ流体実験キット「LabSmith: LabPackage」
その他
リアルタイムに毎日24時間モニターを行う事によって迅速な装置検証を行えます。 – IPSと新しいCyberSpectrumソフトウエアを使ったパーティクルデータ表示と収集により、リアルタイムに装 置の診断を行えます 。 インラインのパーティクルセンサーによって装置メンテのサイクルを短くします。 – リアルタイムにパーティクルを検出し、装置のイベントに相関させることが可能です。 – 装置とプロセスの基準性能を向上させます 。 – 装置の不具合を早い段階で警告することで予防メンテナンス計画を最適化します。 様々なプロセスのいろいろな箇所にIPSを取り付けられます。 – 半導体プロセス装置(EUVのチャンバー)だけでなく、真空チャンバー、3次元の金属印刷装置など様々な装 置や環境に対応しパーティクル測定による可視化を行っていくことが可能です。
ワイヤレス測定による迅速な装置の検証 – APS3では新しいソフトウエアにより小さなパーティクルと大きなパーティクルをリアルタイムに表示します。 – 測定したログデータを使って過去のデータや他の装置との比較を簡単に行えるようになりました CyberSpectrumであれば、参照ソフトがついているので別のソフトウエアを立ち上げる必要はありません。 – クリーニングや調整、修理の効果をフィードバックしながらコンタミ源を減らせるので時間を短縮することが 出来ます。 ウエハライク形状なので装置のメンテナンス期間を短くすることが出来ます。 – 装置を開けずに内部の清浄度をリアルタイムに検証できるので、プロセス環境をメンテ環境に露出しないで済 みます。 – さらに薄く、軽くなったAPS3であれば、より多くの場所に搬送することが出来ます。切り分けを効率よくでき るので、汚い箇所だけをメンテし、クリーンな箇所はメンテを行わない判断が出来ます。 客観的で再現性のよいデータが装置のメンテにかかる経費を削減します。 – パーティクルチェックのファーストパス率を向上させることが出来るので、検証にかかるコストを削減するこ とが出来ます。 – 早期にパーティクル発生を予測することにより、予防メンテナンスを最適化することが出来ます。 – モニターウエハを流す前にAPS3を搬送させ、装置の清浄度に基準を設けることが出来ます。
QIIIを使う事でパーティクル管理が数秒で可能です。
・ クリーンルーム内にある各種製造装置に用いられる構成部品を洗浄した後、その清浄度を確認したい。
・ 従来の清浄度確認方法では時間が掛かり過ぎる。
・ 従来の方法では清浄度の確認が困難な箇所を調べたい。
・ クリーニングの手順と基準を定量的に規定したい。
・光散乱の測定原理により、液中の粒子の大きさと個数を測定。
・毎分100mLの流量で50nmからの測定が可能。
・イーサーネットやRS485によって工場のモニタリングシステムへ
簡単に接続が可能。
・0.1umからの常時監視用としてリモート型の製品も用意。
半導体等の製造プロセスにおいて、正確な温度情報を入手し、製品品質・歩留まり向上、省エネルギー対策のに効果を発揮します。様々な光の波長に対応したラインナップを揃え、測定対象の表面温度を非接触、高速に測定する事が可能