SUSS MicroTecは半導体プロセス装置を製造・販売するドイツの企業です。
主力装置は、レジスト塗布、露光、現像のフォトリソグラフィー装置、ウェーハ接合、最先端フォトマスクのプロセッシング装置、インプリント装置、インクジェット塗布装置であり、
小径基板から300mmφウェハに対応した装置ラインナップを有しています。
DSC300GEN3は200-300mmウェハ向けのプロジェクション方式の露光装置です。最小2μmの露光解像性と1ミクロンのオーバーレイ精度の露光装置で反りやうねりのある基板への露光にも対応しています。露光はブロードバンド波長だけでなくi線、h線、g線の特定波長露光にも対応しています。マスクアライナと異なり露光するパターンの倍率補正・位置補正が行えます。
ACS200GEN3/ACS300GEN2は200-300mmウェハ対応のスピンコーター、デベロッパー装置です。スプレーコーティングにも対応可能な装置設計です。本体部はコンパクトに設計されており、様々な塗布・現像プロセスの要望に応じられるように豊富に機能を備えていますので量産用途はもちろん開発用途にも使用可能な装置です。1μm未満から数百μm厚のレジスト塗布にご使用いただけます。現像はアルカリ現像だけでなくソルベント現像にも対応可能です。