レイデントLSL-Cm4F処理
【薄膜硬質セラミクス膜 】
使用目的:耐熱性・高温安定性・溶融金属非粘着性・薄膜絶縁性・スパッタ防止・Cmタイプで耐熱1000℃(短時間)・耐摩耗性・紫外線吸収性・耐紫外線性・耐オゾン性・耐高真空アウトガス性
お客様の課題:
□ 高温(400℃)環境下で使用されるシューターの耐熱性、潤滑耐摩耗
性(24h 連続)の必要
□ 溶接及びレーザー環境下での耐熱性、およびスパッタ付着防止の必要
□ リフローブロック:溶融金属の非粘着性、および黒色膜による輻射熱
吸収の均一性の必要
□ 高強度の紫外線吸収、および耐熱性が求められる光学装置内ベース
使用実績:
□高温(400℃)環境下で使用されるシューターの耐熱性、潤滑耐摩耗性(24h連続)
□溶接及びレーザー環境下での耐熱性、スパッタ付着防止
□リフローブロック:溶融金属の非粘着性、黒色膜による輻射熱吸収の均一性
□高強度の紫外線吸収、耐熱性が求められる光学装置内ベース