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天谷製作所へようこそ。金属酸化膜成膜用常圧CVD(APCVD)装置・高精細対応フォトマスク洗浄装置を製造しています。
●半導体（ウェハ・パワーデバイス・オプト）・電子部品・MEMS等、様々な用途に対応した、酸化膜成膜装置です。
●高成膜レート・高稼働率・簡易メンテナンス・低CoOが特長です。
●SiO2(NSG,USG)・BPSG・PSG・BSG・AlOx膜等の成膜が可能です。
〇小口径から12"用までラインナップ
〇高スループット生産（8": ～100枚/時・12": ～56枚/時）
〇SiCトレー等の採用により、メタルコンタミネーションを抑制
〇12"用を新規開発
〇少量多品種に対応した高品質成膜（膜厚分布・低パーティクル）
〇特許取得シーケンスにより、ソリの大きなSiCウェハにも対応
〇省フットプリント
〇高精細・高精度のフォトマスク/レチクル対応の洗浄装置
〇機能水（水素水・オゾン水・アンモニア水等）を使用したスピン洗浄ユニット装備
〇異なる洗浄機能を各チャンバーに設けるインライン方式により、高スループットを実現
LSIの高性能化に伴い、
フォトマスク/レチクルは高精細・高精度である事を要求されています。
当社の洗浄装置はこれら製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、
より完成度の高い製品生産が可能な装置です。