最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会の発展に貢献します。
MBM™-3000
2nm Nodeデザインルール対応マルチ電子ビームマスク描画装置
MBM™-2000PLUS <<半導体・オブ・ザ・イヤー 2023 半導体製造装置部門 グランプリ受賞＞＞
3nm+ Nodeデザインルール対応マルチ電子ビームマスク描画装置
MBM™-2000
3nm Nodeデザインルール対応マルチ電子ビームマスク描画装置
EBM-9500PLUS
7nm+/5nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-9500
7nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-9000
10nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-8000P/H
16/14nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-8000P/M
45～20nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
NPI-8000
10/7nm Node高生産性最先端マスク検査装置
NPI-8000V
Up to 14nm Node高生産性最先端マスク検査装置
EPIREVO™ S8
８インチウェーハ対応枚葉式SiCエピタキシャル成長装置
EPIREVO™ G8
枚葉式GaN on Si MOCVD装置