National Institute for Materials Science
デバイス試作・プロセス開発のお困りごとは是非NIMSにご相談ください!
NIMSの半導体微細加工プロセス共用施設を活用しよう!
【共用施設の特徴】
- 約60台の微細加工プロセス・評価装置が利用可能
- いつでもどこからでもオンラインで装置予約可能
- 多種多様な材料・利用目的に対応した装置を提供
- 小片から8インチまで様々な開発目的で利用可能
【主な共用装置】
- 露光:電子ビーム描画装置、レーザー描画装置、マスクレス露光装置、など
- 成膜:スパッタ装置、真空蒸着装置、CVD装置、ALD装置、など
- エッチング:CCP-RIE、ICP-RIE、シリコンDRIE、原子層RIE、など
- 熱処理:赤外線ランプ加熱装置、など
- 観察:走査電子顕微鏡、走査プローブ顕微鏡、レーザー顕微鏡、など
- 評価:エリプソメータ、反射分光膜厚計、表面段差計、など
- 計測:室温プローバー、低温プローバー、など