CHYI DING Technologies Co., Ltd.

Hsinchu County, 
Taiwan
http://www.chd-tech.com.tw
  • Booth: 1753


We provide "the Perfect Craft of Clean Air".

CHD TECH was established in 2006. We are proficient in providing mini-environment control systems for corporations or who is requiring precise control in temperature, humidity and cleanliness.
We have devoted in designing, constructing, and providing integrated solutions for cleanroom construction, mini-environment control of advanced processing, chemical contamination detection & removal, and energy saving.
We are an innovative group which provide "the Perfect Craft of Clean Air". We have certificates of ISO 9001, ISO 14001 and OHSAS 18001. Most important of all, We believe that providing the best service is undoubted.


 Press Releases

  • 空气处理科技与技术是奇鼎科技经营的主要核心项目,市场的营销以半导体制程高端的气体侦测与处理为重点发展方向,在2012年获「洁净室外气空调箱节能水洗装置」SBIR卓越研发成果奖;在2017年获「中小企业创新研究奖」具有卓越研发应用能力。参加中国半导体展(SEMICON CHINA;摊位号码:N5 Hall/5144),展示最新技术。

    奇鼎科技表示,AMC指的是在制造环境过程,产生的气体性分子污染物(Airborne Molecular Contamination)如MA、MB、MC及MD等挥发物质,不论是对产品良率、设备使用年限,甚至是人体健康皆有重要影响。市面上空气水洗机(Air Washer)搭配化学滤网安装在外气空调箱(Make-up Unit)已经成为相关产业的基本配置模式,尤其在半导体、封测、面板等高阶制程产业,污染物与良率的关联性更息息相关。由于台湾的厂房多数集中在政府规画的科学园区,区域建厂密度极高,各厂间尾端排气交叉污染效应严重,加上季节风向的转变,使得大气中各种化学污染物,例如:SOX、NOX、CO、NH3 、HCL及其它的有机污染物等,气体浓度含量会比其他区域偏高。

    目前常见的空气水洗设备在外气浓度高于50ppb以上时,去除性能会不足,此时对后端化学滤网的寿命将是一大考验。因此奇鼎科技采用陶瓷材的离子吸附板来滤除AMC,它具有非常良好的亲水性,结构为独家设计的斜面蜂巢,可在材质表面形成水膜,气流穿过无机陶瓷淋水材,透过风道与空气的有效接触产生最佳效益,维持高去除性能。

    并响应全球节能政策,低压损及低用水量,不需喷头可直接利用水的重力达成最佳加湿能力、最佳液气化,用于制程恒温微污处理设备,可节省风机用电达10%;若应用于厂务的外气空调箱的水洗段,可有效节省水泵耗电量达90%以上,且经由空调箱的出口端实测证实,MA和MB污染物去除性能可达90%以上(或出口浓度小于3ppbv)。于制程端应用亦同时保护光学镜头、曝光光源、防止雾化,能精进与省能。

    奇鼎科技网址:www.chd-tech.com.tw。

  • 洁净空调专家的奇鼎科技,10余年来在高精度环境监测与控制领域已累积多年技术经验,为符合各个高阶制程不同的环境控制需求,于9月5日至7日在台北南港展览馆盛大登场的台湾国际半导体展(2018 SEMICON Taiwan),特别展出三大主轴的系统产品。

    其一是独家专利的有机气体实时在线分析检测系统(Inline AMC Monitoring),为远程气体取样形成的整合产品,链接多点、分析、远程整合的监测趋势,以无人自动化实验室等级的精细度来执行制程环境监控的标准。

    其二是另一展出重点,为高精制程环境控制TAU(曝光机镜组雾化防护机组),藉由业界最精密温湿度控制及空气净化的掌握,提供半导体曝光机黄光制程段最强环控后盾,有效阻止化学污染物腐蚀,防止曝光机镜面雾化且延长化学滤网寿命,提升产品良率,目前也是国内温控设备搭配AMC去除技术的首创业者。

    其三是SRU有机溶剂回收设备,能够将半导体Coating 制程中所浪费的有机气体回收,并撷取有效的光阻剂,不仅大幅降低新液使用量实时监控系统及实用的管路设计,回收率还可达到60%。

    奇鼎科技所提出的全方位系统方案,从环境的温湿度、化学微污染物的控制去除,乃至于实验室分析等级的有机气体实时在线分析检测,可在线监控厂房设施及生产环境的情况,藉此作为质量控管的大数据。

    目前合作伙伴触角已经遍及全球,不仅在中国设立据点,更跃身成为各国际大厂合格供货商,包含美国最大半导体A厂,以及德国S厂,在众多竞争激烈的厂家中脱颖而出,奋力突破国内外技术的困境与匮乏,成为一流的国内外高精密控制整合顶尖制程设备商。


 Products

  • 高吸附洁淨水洗机组 (High-absorption Clean Washer, HCW)
    去除MA&MB相关污染物,减少製程危害。 相较于喷雾水洗,节能率达90%...

  • 功能/效益
    · 可有效去除气态分子污染物,减少制程危害。
    · 当MA & MB的入口端浓度如果低于700 ppbv,
    其去除效率可达90%以上。
    · 当风速2.5 m/s时,300 mm宽度的水洗机组,
    其饱和加湿效率可达95%以上。
    · 相较于喷雾水洗,节能率达90%。
    · 相较于喷雾式之压损低,因此最高能节省风机
    10%能耗。
    · 可提升空气质量,并有效抑菌孳生。
    规格
    •液气比(L/G):≦0.1
    •压损:40 Pa @V=2.5 m/s for D=150 mm
    •尺寸规格:客製化
    应用
    •製造业:半导体、面板製造、IC封测、传统产业
    •除菌环境:药厂、生技产业、消费型市场
  • 有机挥发性气体多点在线监测分析系统(Inline VOC Monitoring Equipment)
    高阶制程半导体在线有机微污染物分析。...

  • 功能/效益
    高阶製程半导体线上有机物分析
    整合分析系统及自动採样系统成为单一机台
    远端摇控及资料库,降低分析人力及时间

    规格

    • sub-ppb侦测极限

    • 每15分钟一笔分析数据资料

    • 单台系统监测区域可达32点

    • 可达100m取样距离

    • 异常气体自动储存

    应用
    • 产业别:半导体产业‧光电产业
    • 供应链:晶圆代工厂‧面版製造厂‧封装测试厂‧晶圆储存盒(FOUP)
    • 製程应用:黄光製程‧蚀刻製程‧化学气相沉积製程‧无尘室环境• 晶圆储存

  • 涂布机Solvent回收设备(Solvent Recycle Unit, SRU)
    回收光阻剂內之溶劑...

  • 功能/效益
    由于Coating制程中涂布喷头需不断地清洗,遂利用Coater VCD exhaust之气体,藉由热交换器及纯化装置将其中solvent搜集并存放于储液槽内,纯化后的solvent经washer喷洒在涂布喷头上,以达清洗目的。
    规格
    • 回收有机气体‧撷取有效之光阻剂
    • 大幅降低新液使用量
    • 最合理、实用的管路系统设计
    • 高效能回收率达
    • 设备保固期:非人为因素下1年
    • 既有塗佈機可加裝

    厂务端需求

    条件说明

    PCW 水温

    依各厂规格要求

    PCW 流量

    依pump风量而定

    电力规格

    1ψ/220V/60Hz

    Drain Port

    1/2"

    设备规格

    条件说明

    尺寸

    客制化设计

    运转噪音

    70 dB(A)

    处理风量

    5-40 CMM

    回收能力(提供计算式)

    高效能回收率

    安全措施

    1. Solvent Tank 压力监视与卸压保护
    2. 漏液侦测
    3. 蜂鸣警报/灯号显示运转状态

  • 曝光机镜组雾化防护机组(长效型)(Thermal AMC Unit, TAU)
    防止曝光设备镜面雾以化延长镜组使用年限...

  • 功能/效益
    防止曝光设备镜面雾以化延长镜组使用年限
    延长曝光设备LAMP使用时间
    提升产品良率
    防止化学污染物腐蚀机台内部元件
    规格
    •洁淨度控制:ISO Class 4
    •温度控制精度:±0.5℃~ ±0.05℃
    •湿度控制精度:±5%RH ~ ±0.5%RH
    •气状分子污染物去除:>80% in Main AMC
    •内建温湿度记录、警报、远端监测及自动防护等功能
    应用
    •产业别:半导体製造、薄型平面显示器(FPD)
    •供应链:面版製造、彩色滤光片、晶圆製造、封测
    •製程应用:光阻涂佈、曝光显影、防止曝光机镜面雾化
     

  • 制程精密温湿度控制机组 (Thermal Control Unit, TCU)
    提供面板业、晶圆厂、封装测试厂精密温湿度控制确保曝光机、显影/涂佈设备等製程良率...

  • 功能/效益
    提供面板业、晶圆厂、封装测试厂精密温湿度控制确保曝光机、显影/涂佈设备等製程良率
    规格
    • 洁淨度控制:ISO Class 1
    • 温度控制精度: ±0.1℃ ~ ±0.01℃
    • 湿度控制精度:±2%RH ~ ±0.5%RH
    • 机台内建温湿度曲线资料
    • 机台警报、远端监测及自动防护等功能
    应用
    • 产业别: 半导体製造、薄型平面显示器(FPD)、精密机械加工、精密测量、学术研究
    • 供应链:面版製造、彩色滤光片、封装测试、晶圆製造
    • 製程应用:光阻涂佈、曝光显影、镜面/头研磨、雷射加工、几何尺寸测量
    • 客户与实绩:光电面板大厂、半导体封装大厂、实绩 > 250 台

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