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Overview
福建德尔科技股份有限公司成立于2014年6月，注册资本10.39亿元。公司致力于氟化工全产业链布局，主要从事氟化工基础材料、新能源锂电材料、特种气体和半导体湿电子化学品等多系列含氟新材料的研发、生产和销售，是一家拥有核心自主知识产权的国家级高新技术企业。产品广泛应用于半导体芯片、LED芯片、平板显示、通讯光纤、动力和储能电池、特高压输变电、光伏发电等。
福建德尔作为国内含氟电子气体龙头，依托公司氟化工的全产业链布局和领先的研发生产能力，拥有国内最全的含氟电子气体产品阵容，能够为客户提供“一站式”解决方案：
电子级超高纯气体:
一氟甲烷CH3F、二氟甲烷CH2F2
三氟甲烷CHF3、三氟化氯CIF3、三氟化磷PF3
四氟化碳CF4、六氟化硫SF6、六氟乙烷C2F6
六氟丁二烯C4F6、八氟丙烷C3F8
八氟环丁烷C4F8、氟化氢HF
氟氮混合气F2/N2
稀有气体:氦He、氖Ne、氪Kr、氙Xe
其他气体:笑气N20、超纯氧02 六氟化硫/氮气混合气SF6/N2
福建天甫电子于2022年投产，品类丰富；氢氟酸、氨水、双氧水、硫酸、硝酸、盐酸产品金属杂质最低控制在10 ppt 以内，产品等级覆盖EL级、UP级、UPS级、UPSS级和UPSSS级；氟化铵、BOE蚀刻液产品等级覆盖EL级、UP级、UPS级和UPSS级，能够满足国内半导体、显示面板及微电子行业客户的多元化需求，并为 12 英寸晶圆先进制程、高世代显示面板等高端制造领域的蚀刻、清洗工艺环节，提供适配的高端湿电子化学品。
超高纯湿电子化学品:
氢氟酸HF、氨水NH4OH、氟化铵NH4F、
硫酸H2SO4、双氧水H2O2、盐酸HCI、硝酸HNO3、
BOE蚀刻液 BOE Etchant
SIO蚀刻液 SIO Etchant
功能性化学品:
铝蚀刻液 AI Etchant
铜蚀刻液 Cu Etchant
草酸蚀刻液 Oxalic acid Etchant
TFT显影液 TFT Developer
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