Nanofilm Technologies International Limited

上海,  青浦区 
China
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  • Booth: 2667

探索先进的ta-C涂层来提高半导体产量

Overview

NTI Nanofilm为半导体后端提供先进的薄膜涂层和交钥匙设备。我们的FCVA ta-C解决方案(TAC-ON®,MiCC)增强了晶圆研磨载体,线键合毛细管/工具和引线框架载体,具有超低摩擦,高耐磨性,ESD控制和减少污染。我们提供涂层服务、应用工程和工艺集成,以提高产量、正常运行时间和工具寿命。

凭借强大的国际影响力,NTI Nanofilm在新加坡、越南、中国、日本、印度和德国设有办事处和工厂,为全球客户提供尖端的材料科学和精密工程解决方案。NTI Nanofilm于2020年在新加坡交易所上市,致力于推动高性能涂料和先进材料的创新和可持续性。


  Press Releases

  • 随着半导体制造不断向更小尺寸与更高性能推进,后段封装制程同样面临更严苛的工艺挑战。引线框架(Lead Frame)作为半导体封装中实现电气连接的关键金属结构,其在高温制程中的定位精度与稳定性,直接影响封装良率与可靠性。因此,引线框架载具被用于在高温环境下稳定固定引线框架,确保制程顺畅进行。

    然而,随着先进封装工艺的演进,制程温度逐步提升至 265°C 以上,传统载具涂层如 聚四氟乙烯(PTFE) 或 硅基涂层 已难以胜任。这类涂层在高温下会发生性能劣化,导致引线框架粘附、变形甚至撕裂,从而引发良率下降、设备停机与制造成本上升。制造商亟需一种具备高热稳定性、低粘附性与长寿命的先进涂层解决方案。

    半导体制造面临的核心挑战

    随着器件微缩与制程复杂度提升,传统涂层在热与机械负载下暴露出明显瓶颈:

    • 粘附问题:聚合物涂层在 >200°C 软化,导致引线框架粘连
    • 涂层耐久性不足:热疲劳引发裂纹、剥落与侵蚀
    • 生产效率下降:载具清洗频繁,引发非计划停机

    为何传统涂层在高温引线框架载具中失效

    传统涂层 优点 缺点 关键失效问题
    PTFE(聚四氟乙烯) 低摩擦、不粘性广泛应用 200°C 性能劣化 磨损快、需频繁重涂 易剥落与污染 高温软化导致引线框架粘附与撕裂
    PVD 涂层 表面硬、耐磨 表面能高(~25–50 mN/m) 摩擦系数较高(~0.14) >200°C 热膨胀失配 表面粘附,需频繁清洗,产线停机
    硅基涂层 初期耐磨 表面能高、易粘附高温快速劣化 使用寿命短,运营成本高
    氧化物涂层(Al₂O₃、TiO₂ 等) 耐高温、耐腐蚀 脆性大、易开裂表面能高制程复杂 涂层破裂导致颗粒污染

    什么是 F-TAC?

    F-TAC 是一种专为高温、高产能半导体制造而设计的含氟薄膜涂层。

    核心优势

    • 耐高温性能:在 >265°C 条件下长期稳定
    • 超低摩擦系数(<0.1):有效防止粘附与撕裂
    • 超长使用寿命:寿命显著优于 PTFE、PVD、硅基与氧化物涂层
    • 可定制特性:针对不同载具材料与制程需求进行优化

    F-TAC 如何解决引线框架载具的关键问题

    F-TAC 含氟薄膜涂层结合 氟化表面工程 与 纳米级结构设计,可在超过 265°C 的极端工况下形成稳定、不粘附的保护屏障。通过 FCVA(过滤阴极真空电弧)沉积技术,F-TAC 实现高致密、低应力、无裂纹的均匀涂层,确保长期可靠性。

    问题 F-TAC 解决方案 对引线框架载具的影响
    极端高温 265°C 下性能稳定 不变形、不失效
    粘附与撕裂 超低摩擦表面(<0.1),接触角 >110° 引线框架损伤降低约 10%
    频繁清洗 高耐久表面减少残留 清洗频率降低约 40%
    寿命短 高耐磨、抗热疲劳 使用寿命为 PTFE / PVD 的 3–5 倍
    材料适配性差 参数可定制 各类载具材料性能一致

    为什么半导体制造商选择 F-TAC

    在半导体制造中,哪怕极微小的效率提升,都会转化为显著的成本与良率优势。F-TAC 让工程团队在高温工况下依然保持稳定生产,同时有效控制维护与更换成本

    指标 F-TAC 实际表现
    粘附失效 减少 83%
    清洗次数 减少 70%
    单位节拍 提升 22%
    涂层寿命 延长 3–4 倍

    F-TAC 以耐高温、低摩擦与长寿命性能,为引线框架载具提供可靠保障,帮助半导体制造实现更高良率、更长连续运行时间与更低总体拥有成本

    了解 F-TAC 如何提升您的引线框架载具性能,欢迎联系我们进行技术咨询、样品评估或下载产品资料。

  • 随着人工智能、边缘计算与可穿戴技术等应用的推动,半导体器件持续朝着更小尺寸与更高复杂度发展,封装技术也必须同步升级。三维集成与先进封装架构需要更细的金线与更小的焊盘尺寸,这使键合工具承受更高的机械应力。

    虽然在部分高密度应用中已采用倒装芯片(Flip Chip)工艺,但在返修性与耐热性方面仍存在局限。由于具备灵活性高、成本较低且适合大规模量产等优势,引线键合仍是主流互连方式。

    然而,小型化趋势也带来了新的机械挑战,其中最关键的之一便是工具磨损。当键合工具频繁接触具有磨蚀性的金属线材时,其表面会迅速劣化,导致停机时间增加、工具更换频繁以及键合品质不稳定。解决这一问题对于维持高效率与稳定良率至关重要。


    什么是引线键合?

    引线键合是一种利用极细的金线、铜线或铝线,在半导体芯片与封装之间建立电气连接的工艺,广泛应用于 CPU、存储器与传感器等器件。其主要步骤包括:

    • 通过加热与压力形成初始接触的球焊(Ball Bonding)

    • 利用超声能量将金线固定到基板上的楔焊(Wedge Bonding)

    • 形成回路以避免短路并保持间距

    目前仍有超过 75% 的半导体器件依赖引线键合,这得益于其高度适应性、成本效益以及对多种应用场景的支持能力。


    当前引线键合的关键挑战

    随着封装不断微型化,多项问题开始影响生产良率与可靠性:

    挑战

    影响

    工具磨损

    磨蚀性线材加速毛细管磨损,增加更换频率与停机时间

    污染

    颗粒黏附使良率最高下降达 30%

    热应力

    高温使工具软化并造成偏移

    静电损伤(ESD)

    静电放电可能引入潜在缺陷

    在这些问题中,工具磨损对运行效率与长期成本的影响最为直接。


    传统涂层为何失效

    传统工具涂层往往难以承受现代键合工艺的严苛要求,许多方案缺乏防止早期磨损所需的硬度与耐久性。常见涂层的比较如下:

    涂层类型

    优点

    缺点

    失效问题

    传统 DLC

    中等耐磨性

    硬度低(15 GPa)

    易开裂与剥落

    钯镀层铜

    抗氧化

    键合品质不稳定

    界面可靠性不足

    金(Au)

    高导电性

    金属间化合物快速生长

    导致机械失效

    裸铜(Cu)

    成本低

    易氧化

    表面损伤与键合强度不足

    行业亟需更坚韧、寿命更长的涂层方案,以降低工具磨损并提升生产效率。


    TAC-ON®:提升引线键合精度

    纳峰科技(NTI Nanofilm)的 TAC-ON® 涂层是一种新一代类金刚石碳解决方案,专为延长引线键合工具寿命而开发,在具备超高硬度与光滑表面的同时,保持优异的热稳定性与电稳定性。

    问题

    TAC-ON® 方案

    影响

    工具磨损

    硬度达 40 GPa(比传统 DLC 强 2.5 倍)

    工具寿命延长 3–5 倍

    污染

    超光滑表面(Ra < 0.1 nm)

    良率提升 30%

    热应力

    可耐受高达 600 °C

    保持稳定对位

    静电损伤

    防静电特性(10⁵–10⁹ Ω/□)

    ESD 失效减少超过 80%


    TAC-ON® 与传统方案对比

    指标

    TAC-ON®

    传统方案

    改善幅度

    工具寿命

    延长 3–5 倍

    标准寿命

    更换次数减少 75%

    良率

    98%

    68%

    提升 30%

    ESD 失效

    <5%

    25%

    降低 80%


    结论

    工具磨损是现代引线键合工艺中最持久的瓶颈之一,会降低生产效率、推高工具成本并破坏良率稳定性。纳峰科技的 TAC-ON® 涂层通过高硬度、长寿命的类金刚石碳结构,直接解决这一关键挑战。

    借助减少换刀次数、延长毛细管寿命并维持制程一致性,TAC-ON® 协助制造商优化产能、降低运营成本。在半导体持续微型化的时代,这类高精度功能涂层已成为实现可持续量产性能的关键。

  • 随着人工智能、电动车、工业自动化等应用快速成长,半导体产业正迈向更大尺寸晶圆(300 mm、450 mm 以上)与更先进的封装架构。这一趋势,使后段制程中关键部件研磨载具(Lapping Carrier)面临前所未有的性能要求。

    在晶圆减薄、双面研磨与 CMP 抛光过程中,载具必须同时兼顾厚度均匀性(TTV 控制)、边缘保护、耐磨耗与化学稳定性。然而,长期以来依赖的 PVD / PECVD DLC 涂层,正逐渐显现出瓶颈:

    • 大尺寸晶圆带来更高机械负载与应力

    • 涂层磨损、微裂纹与剥落问题加剧

    • CMP 浆料造成化学侵蚀

    • 频繁返镀与更换导致停机时间增加

    • 良率可能下滑 0.5–2%,推高整体制造成本

    在高产能、高良率成为核心竞争力的今天,传统方案显然已难以支撑下一阶段的制程需求。


    传统 DLC 涂层的极限在哪里?

    DLC(类金刚石碳)涂层因其高硬度与低摩擦特性,长期被应用于研磨载具,并主要通过 PVD 或 PECVD 工艺沉积:

    • PVD DLC:硬度高、附着力尚可,但残余应力较大,长期运行下容易剥离。

    • PECVD DLC:覆盖性佳,适合复杂结构,但在高负载与化学环境中更易磨损与氧化。

    当晶圆尺寸不断放大、制程压力提高时,这些缺点被进一步放大,使得涂层寿命缩短、污染风险上升,并直接影响产线稳定度。


    FCVA 技术加持的 TAC-ON® 解决方案

    针对这些痛点,TAC-ON® ta-C 涂层 采用 FCVA(过滤阴极真空电弧) 技术,重新定义研磨载具涂层的性能标准。

    与传统 DLC 相比,TAC-ON® 在关键指标上实现全面突破:

    • 超高硬度(~40 GPa):显著提升耐磨性,延长载具使用寿命

    • 卓越附着力:即使在高应力环境下也不易剥离,降低污染风险

    • 低摩擦系数(~0.1):减少磨屑生成,改善晶圆表面品质

    • 低温均匀沉积:降低内应力,避免针孔与裂纹,提高制程稳定性


    技术规格对比:TAC-ON® vs. 传统 DLC

    性能指标

    TAC-ON®(FCVA ta-C

    传统 DLC(PVD / PECVD

    金刚石含量

    ~85%

    ~25%

    硬度

    ~40 GPa

    ~15 GPa

    磨损率

    <10⁻⁸ mm³/Nm

    ~8×10⁻⁸

    摩擦系数

    ~0.1

    ~0.14

    这些技术优势不仅体现在实验室数据中,也直接转化为产线的营运效益。


    升级 TAC-ON® 的商业价值

    对于追求高效率与规模化生产的晶圆制造商而言,采用 TAC-ON® 涂层意味着:

    • 降低维护成本与停机时间:寿命更长、返镀频率更低

    • 提升良率:减少污染与缺陷,降低返工与报废

    • 维持高精度公差:涂层更薄却更坚固,不影响载具尺寸稳定性

    • 强化量产能力:满足 AI 与先进封装带来的高产能需求


    结语

    在晶圆尺寸持续放大、制程要求日益严苛的时代,传统 DLC 涂层已逐渐难以支撑研磨载具的长期可靠运行。TAC-ON® FCVA ta-C 涂层 以更高硬度、优异附着力与低摩擦特性,为后段制程提供一条更耐久、更稳定且更具成本效益的升级路径。

    对希望在竞争激烈的半导体产业中保持领先的制造商而言,先进涂层技术正成为不可或缺的关键支柱。


  Products

  • MiCC® 纳米晶氮化铬 陶瓷涂层
    MiCC®(纳米晶铬氮化物陶瓷涂层)采用专利 FCVA 技术沉积超薄铬氮化物涂层,具备卓越硬度与低摩擦特性。相较于传统 CrN 涂层,MiCC® 可有效减少黏附,确保顺畅脱模,延长零部件使用寿命,并显著提升生产效率。 适用应用包括:模具型腔、取放系统...

  • 项目 参数
    涂层成分 CrN(氮化铬)
    涂层厚度(µm) 1 – 4
    显微硬度(HV) 1,800
    摩擦系数 < 0.11
    涂层工艺温度(°C) 150
    最高耐受温度(°C) 700
    涂层颜色 银灰色
  • TAC-ON®四面体非晶 碳涂层
    TAC-ON ®具备卓越硬度、低摩擦系数 及优异的缺陷控制能力,可显著提升产品 良率与生产可靠性。 该涂层适用于游星轮、引线框架载具及 高端半导体设备,提供完整的摩擦学 解决方案。...

  • 项目 参数
    涂层成分 ta-C(四面体非晶碳)
    涂层厚度(µm) 1 – 4
    显微硬度(HV) 3,000
    摩擦系数 < 0.1
    涂层工艺温度(°C) 80
    最高耐受温度(°C) 500
    涂层颜色 深灰色
  • ASD防静电涂层
    ASD防静电涂层能为敏感半导体元器件提供静电防护,有效规避静电放电风险,确保在所有制造阶段均能实现更高的可靠性与稳定性。 我们的ASD解决方案特别适用于晶圆加工、芯片封装与组装环节,为关键半导体应用提供精准可靠的防护保障。...

  • 项目 参数
    涂层成分 ta-C 与 DLC 复合涂层
    涂层厚度(µm) 4 – 6
    显微硬度(HV) 2,500
    摩擦系数 < 0.1
    涂层工艺温度(°C) < 150
    最高耐受温度(°C) 400
    涂层颜色 深灰色
    ```

產品種類