PACE-Tec GmbH

PaceTec is your expert for innovative wet benches and media supply solutions in the semiconductor industry. Our portfolio includes media cabinets for both indoor and outdoor use – ranging from small containers integrated into wet benches to drums and IBC containers with 1,000 liters. For uninterrupted media supply, we offer self-switching media cabinets. Our systems use both pumps for secure media supply and nitrogen for solvent applications. Customized solutions and premium material quality ensure maximum safety, efficiency, and sustainability.

PaceTec ist Ihr Experte für innovative Nassbänke und Medienversorgung in der Halbleiterindustrie. Unsere Lösungen umfassen Medienkabinetten für den Innen- und Außenbereich – von kleinen, in die Nassbank integrierten Gebinden über Fässer bis hin zu IBC-Containern mit 1.000 Litern. Für eine unterbrechungsfreie Medienversorgung bieten wir selbstumschaltende Medienkabinetten an. Unsere Systeme nutzen sowohl Pumpen für die sichere Medienversorgung als auch Stickstoff für Lösemittelanwendungen. Maßgeschneiderte Lösungen und höchste Materialqualität sorgen für maximale Sicherheit, Effizienz und Nachhaltigkeit.

Automatisierte Nassbank zur Waferbearbeitung für folgende mögliche Applikationen:

• SC1/SC2- Reinigung
• RCA- Reinigung mit HF Dip
• Ätzen
• Entwickeln
• Lösemittelapplikationen
• Teilereinigung
• Lift- Off
• Strippen

Automized wafer treatment wetbench for following possible applications:

• SC1/2- Cleaning
• RCA- Cleaning with HF- dip
• Etching
• Development
• Solvent applications
• Parts cleaning
• Lift- Off
• Stripping

In unseren halbautomatischen Nassbänken werden Prozesse sowohl manuell wie auch automatisert durchgeführt. Ein Kundebeispiel war das Ätzen von Wafern mit HF (Flusssäure). In den ersten Becken war die HF Konzentration noch gering, daher konnte dies manuell gelöst werden. In den letzten beiden Becken war die HF- Konzentration aber hoch und dem Kunden war dies zu riskant für seinen Mitarbeiter. Nun hängt der Mitarbeiter die Wafer- Carrier in das 2- Achs- Handlingsystem und der Ätzprozess mit Agitation startet automatisch und wird nach definierter Zeit im DI-Wasser beendet. 

In  our semiautomtaic wetbenches processes are performed manually as well as automatic. A customer application was etching of wafers with HF (hydrofluoric acid). In the first process baths the HF- concentration was low, so it could be realized manually. In the last two process baths the HF- concentration was much higher und the customer was worried about operator safety. Now the operator places the wafer carriers into a 2- axis handling system and the etching process with oscillation starts automatically and ends after defined time in the DI-bath. 

Unser kundenspezifischen Nassbänke sind an Ihren Bedürfnissen ausgerichtet. 

Ideal:

• in der Entwicklung
• bei geringem Output
• langen Prozesszeiten
• volle Flexibilität

Our customer specific wetbenches are designed to fulfil your individual requirements. 

Ideally for:

• R&D 
• low output requirements
• long processing times
• full flexibility