PACE-Tec GmbH

Manual Wet Benches for Semiconductor Processing

PaceTec designs and manufactures high-quality manual wet benches tailored for wet chemical processing in semiconductor R&D and pilot lines. Our systems support a wide range of applications such as cleaning, etching, developing, and rinsing of wafers with precision and safety.

Built with a modular design, chemical-resistant materials, and customer-specific configurations, our wet benches ensure maximum process reliability, reproducibility, and ergonomic operation. We support various substrate sizes, from small dies up to 300 mm wafers.

Typical applications:

• Wet etching and wafer cleaning

• Photoresist developing (developer stations)

• RCA and Piranha cleaning processes

• Metal etching (e.g. Al, Cu)

Your advantages with PaceTec:

• Custom-configured systems

• Compact, cleanroom-compatible designs

• Decades of experience in the semiconductor sector

Manuelle Nassbänke für die Halbleiterfertigung

PaceTec entwickelt und fertigt hochwertige manuelle Nassbänke für die Mikro- und Nanostrukturierung in der Halbleiterindustrie. Unsere Systeme sind speziell für nasschemische Prozesse wie Reinigen, Ätzen, Entwickeln und Spülen von Wafern in F&E- und Pilotlinienumgebungen ausgelegt.

Dank modularer Bauweise, chemikalienresistenter Materialien und anwenderspezifischer Konfigurationen bieten unsere Nassbänke höchste Prozesssicherheit, Reproduzierbarkeit und Ergonomie. Wir ermöglichen die präzise Handhabung unterschiedlichster Substratformate – von kleinen Dies bis hin zu 300-mm-Wafern.

Typische Anwendungen:

• Nasschemisches Ätzen und Reinigung

• Fotolack-Entwicklung (Entwicklerstationen)

• RCA- und Piranha-Reinigungsprozesse

• Metallätzverfahren (z. B. Al, Cu)

Ihre Vorteile mit PaceTec:

• Individuell konfigurierbare Anlagen

• Kompakte, reinraumtaugliche Bauweise

• Langjährige Erfahrung im Semiconductor-Sektor

Semi-Automated Wet Benches for Semiconductor Applications

PaceTec's semi-automated wet benches combine precise process control with enhanced operator safety and automation. Designed for wet chemical processing in semiconductor R&D and pilot production, they support applications such as etching, cleaning, rinsing, and developing – with high repeatability and reliability.

Our systems feature motorized wafer handling, programmable process sequences, temperature and chemical control, and user interfaces with recipe management, making them ideal for process development and small-volume manufacturing.

Typical applications:

• Wet etching (e.g. Si, SiO₂, metals)

• Surface cleaning and particle reduction

• Photoresist development and stripping

• Processes using HF, H₂SO₄, HCl, NH₄OH, and more

Your benefits with PaceTec:

• Enhanced process control through semi-automation

• Modular, flexible system designs

• Operator safety via guided interaction

• Cleanroom-ready, durable construction

Halbautomatische Nassbänke für die Halbleiterfertigung

Die halbautomatischen Nassbänke von PaceTec verbinden präzise Prozessführung mit erhöhter Anwendersicherheit und Automatisierungsgrad. Entwickelt für nasschemische Prozesse in der Halbleiterindustrie, ermöglichen sie kontrollierte und reproduzierbare Anwendungen wie Ätzen, Reinigen, Spülen oder Entwickeln.

Unsere Systeme integrieren motorisierte Transportsysteme, prozessgesteuerte Timer, Temperatur- und Chemikaliendosierung sowie Benutzerschnittstellen mit Rezeptsteuerung – ideal für Pilotlinien, Kleinserien und Prozessentwicklung.

Typische Anwendungen:

• Nasschemisches Ätzen (z. B. Si, SiO₂, Metalle)

• Partikelreduktion und Oberflächenreinigung

• Resistentwicklung und -entfernung

• Prozesschemie mit HF, H₂SO₄, HCl, NH₄OH u. a.

Ihre Vorteile mit PaceTec:

• Hohe Prozesskontrolle durch Teilautomatisierung

• Flexible Anlagenkonfigurationen

• Sicherheit durch interaktive Benutzerführung

• Reinraumtaugliche, robuste Ausführung

Automated Wet Benches for Semiconductor Manufacturing

The automated wet benches from PaceTec provide fully automated wet chemical processing for semiconductor manufacturing, R&D, and pilot lines. Designed for cleaning, etching, developing, rinsing, and drying of substrates up to 300 mm, they deliver precise, repeatable, and safe performance.

Our systems combine precise chemical control, recipe-based automation, and robotic substrate handling to ensure maximum throughput and process reliability. The modular design allows customization to fit specific customer needs and cleanroom standards.

Typical applications:

• Batch and single-wafer processing

• RCA and megasonic cleaning

• Metal and oxide etching

• Lift-off and photoresist developing

Your advantages with PaceTec:

• Fully automated, reliable operation

• High process control and traceability

• Seamless integration into fabs and pilot lines

Automatische Nassbänke für die Halbleiterindustrie

Die automatischen Nassbänke von PaceTec ermöglichen eine vollautomatisierte nasschemische Prozessführung in der Halbleiterfertigung, Forschung und Pilotproduktion. Sie sind für Prozesse wie Reinigung, Ätzen, Entwickeln, Spülen und Trocknen von Substraten bis 300 mm konzipiert – präzise, reproduzierbar und sicher.

Unsere Systeme kombinieren präzise Mediensteuerung, rezeptbasierte Prozessführung und automatisiertes Handling für höchste Produktivität. Dank modularer Plattform lassen sich alle Anlagen individuell an kundenspezifische Prozesse und Reinraumumgebungen anpassen.

Typische Anwendungen:

• Batch- und Einzelwaferprozesse

• RCA- und Megasonic-Reinigung

• Metall- und Oxidätzprozesse

• Lift-off- und Entwicklerprozesse

Ihre Vorteile mit PaceTec:

• Vollautomatisierter, zuverlässiger Betrieb

• Hohe Prozesskontrolle und Nachverfolgbarkeit

• Flexible Integration in Fabs und Pilotlinien

Media Supply Systems for Wet Process Equipment in Semiconductor Manufacturing

PaceTec provides customized media supply systems for the safe and precise delivery of process chemicals, DI water, and wastewater handling for wet benches used in semiconductor R&D and production. Designed for maximum safety, cleanroom compatibility, and seamless process integration, our systems support both single-station and centralized setups.

We offer complete turnkey solutions including:

• Chemical storage and dosing

• Pump and distribution units

• Leak detection and emergency shutdown systems

• Exhaust and wastewater treatment

Our modular designs allow for flexible configuration, multi-bench connectivity, and compliance with SEMI and safety standards.

Your benefits with PaceTec:

• Fully integrated media supply tailored to your wet processes

• Safety-first design with TÜV-compliant engineering

• Detailed documentation and support for system qualification

• Proven expertise in cleanroom and semiconductor environments

Medienversorgungssysteme für Nassprozessanlagen in der Halbleiterfertigung

PaceTec liefert maßgeschneiderte Medienversorgungssysteme zur sicheren und präzisen Bereitstellung von Prozesschemikalien, Reinstwasser und neutralisierten Abwässern für Nassbänke in der Halbleiterindustrie. Unsere Lösungen sind auf maximale Sicherheit, Reinraumtauglichkeit und Prozessintegration ausgelegt.

Ob für Forschungseinrichtungen, Pilotlinien oder Produktion – wir bieten vollständige Versorgungskonzepte inklusive:

• Chemikalienlagerung und -dosierung

• Pumpen- und Verteilsysteme

• Sicherheitseinrichtungen wie Leckageüberwachung, Notabschaltung

• Abgas- und Abwasserbehandlung

Unsere modular aufgebauten Systeme ermöglichen die flexible Anbindung mehrerer Nassbänke, prozessspezifische Anpassungen sowie die Integration in zentrale Versorgungseinheiten.

Ihre Vorteile mit PaceTec:

• Medienversorgung "aus einer Hand" – exakt auf Ihre Nassprozesse abgestimmt

• Höchste Sicherheit durch TÜV-konforme Konstruktion

• Individuelle Anlagenplanung und Dokumentation nach SEMI-Standards

• Langjährige Erfahrung in der Reinraum- und Halbleitertechnik

ATEX-Compliant Wet Benches for Solvent Applications in Semiconductor Manufacturing

PaceTec provides safe and reliable ATEX-certified wet benches specifically designed for handling flammable solvents in the semiconductor industry. Our systems meet the highest safety standards to ensure explosion-proof operation in cleanroom environments.

Our wet benches are ideal for processes such as solvent cleaning, drying, degreasing, and other wet chemical applications involving flammable substances. Featuring robust materials, advanced safety systems, and modular designs, our solutions integrate seamlessly into your production lines.

Your benefits with PaceTec:

• Full ATEX certification for safe solvent handling

• Maximum process and operator safety in cleanroom environments

• Flexible, customer-specific system configurations

• Extensive experience in semiconductor applications

ATEX-konforme Nassbänke für Lösemittelprozesse in der Halbleiterfertigung

PaceTec entwickelt und fertigt ATEX-konforme Nassbänke für den sicheren Einsatz von brennbaren Lösemitteln wie Aceton, Isopropanol oder PGMEA in halbleiterspezifischen Nassprozessen. Unsere Systeme sind speziell für explosionsgefährdete Bereiche konzipiert (z. B. ATEX-Zone 1) und erfüllen höchste Anforderungen an Sicherheit, Ergonomie und Prozessstabilität.

Typische Anwendungen sind das Lösemittelentwickeln von Fotolacken, Entfettungsschritte oder spezielle Reinigungsprozesse mit brennbaren Medien. Die Anlagen bieten eine komplette Abluftführung, Leckageüberwachung, Erdungskonzepte sowie sichere Medienversorgung nach ATEX-Richtlinien.

Ihre Vorteile mit PaceTec:

• ATEX-zertifizierte Anlagen (z. B. nach RL 2014/34/EU)

• Individuell konfigurierbar für Lösemittelprozesse

• Kompakte Bauweise mit maximaler Bedienersicherheit

• Lückenlose Dokumentation für Abnahme & Qualifizierung