Die TruPlasma RF Series G3 ist die nächste Generation von Hochfrequenz-Stromversorgungen, die speziell für die anspruchsvollsten Anwendungen in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Mit einer modularen Plattform und herausragender Energieeffizienz bietet sie flexible Lösungen für Prozesse wie chemische Dampfabscheidung, Plasmaätzen und Ioneneinbringung. Die Multi-Level Pulsing-Technologie und die hohe Pulsfrequenz von bis zu 400 kHz gewährleisten eine präzise Steuerung der Energieabgabe, was die Prozessgenauigkeit und Materialqualität verbessert.
Dank der Echtzeit-Ausgangsimpedanzmessung und der integrierten WebGUI ist die Überwachung und Steuerung der Prozesse einfach und effizient. Die Stromversorgung ist mit früheren Generationen kompatibel und ermöglicht eine nahtlose Integration in bestehende Systeme. Mit verschiedenen Leistungsstufen von 2,5 kW bis 10 kW und einer breiten Spannungsversorgung ist die TruPlasma RF Series G3 die ideale Lösung für zuverlässige und stabile Plasmaprozesse