Suzhou Jingtuo Semiconductor Technology Co.,Ltd.

CO2溶解水﹣防静电装置
CO2-dissolved water and de-static device

技术特点／ Technical features：

◆采用高效中空纤维膜混合技术
Adopt high efficiency hollow fiber membrane hybrid
technology
◆多路输出，电阻率范围0.05-1MQ.cm
Multiple outputs, resistivity range from 0.05-1MQ.cm 
◆可选自动电阻控制控制模块，电阻率可变可控
Optional automatic resistance control module, variable and controllable resistivity
◆结构简单，高可靠性与稳定性
Simple structure, high reliability and stability.
◆ Panel mount与Cabinet两种结构可选
Panel mount and Cabinet structure available.

应用领域／Applications：

◆表面清洗工艺
Surface cleaning process
◆硅晶圆切割工艺
Silicon wafer dicing process
◆单基片旋转清洗工艺
Single-substrate spin cleaning process
◆平板显示行业应用
Flat panel display industry applications

半导体级臭氧气体系
Ozone Delivery System For Semiconductor

技术特点／Technical features：

◇掩埋式高压电极与地电极，无金属污染
Buried high voltage electrode and ground electrode, no metal contamination.
◇最高浓度可达350g/m³以上
Maximum concentration up to 350g/m³ or more.
◇最大流量120slm
Maximum flow rate of 120slm.
◇开环控制与闭环控制可选
Open-loop and closed-loop control options.
◇Stack堆叠，集成发生器数置：Max4sets
Stack, integrated generator number set: Max4sets.
◇集成自动压力控制器，MFC与臭氧分析仪
Integrated automatic pressure controller, MFC and ozone analyzer.
◇SEMI S2,S23,CE 认证
SEMI S2,S23,CE certificates.

应用领域 /Applications：

◆ TEOS-O3 Process CVD
◆ ALD for High-K dielectric deposition

多家主流Fab量产运行3年以上
Multiple Mainstream Fab Mass production running for more than 3 years

小型臭氧气体系统
Mini-Ozone Delivery System For Semiconductor

技术特点 / Technical features：

◆ 双面放电技术，高臭氧产出
Daul-sided discharge technology with high ozone output.
◆高纯陶瓷放电技术，洁净臭氧气体
High purity ceramic discharge technology for clean ozone gas.
◆最高浓度达350g/m³以上，流量：0.5-30slm
Maximum concentration above 350g/m³, flow rate :0.5-30slm.
◆高可靠性与控制精度
High reliability and control accuracy.
◆SEMI S2,CE 认证
SEMI S2, CE certification.
◆ 可用于ALD薄膜沉积，灰化，晶圆清洗等工艺
Can be used for ALD thin film deposition, ashing, wafer cleaning and other processes.

半导体级高浓度臭氧水系统
High Concentration Dissolved Ozone Water System for Semiconductor

技术特点 / Technical features：

◆ HICON系列面向半导体行业
HICON series for semiconductor industry
◆HIFLOW系列面向平板显示行业
HIFLOW Series for flat panel display industry
◆ 高纯陶瓷放电技术，高纯高浓度臭氧发生器，无金属污染
High purity ceramic discharge technology, high purity and high concentration
ozone generator, and no metal pollution.
◆集成式气液混合与消泡技术，混合同时排出多余气泡
Integrated gas-liquid mixing and defoaming technology, discharging
excess bubbles while mixing
◆ 配置无轴磁悬浮增压泵，高压力输出，多流量可选
Equipped with shaftless magnetic levitation booster pump, high pressure 
◆ 流量可选范围：1-140LPM范围，满足SEMI与FPD行业需求
output, and multiple flow rate options.
Flow rate options: range of 1-140LPM , to meet the needs of SEMI and FPD industrv.
◆配置加热催化一体式臭氧破坏器，分解多余臭氧气体
Configuration of heating catalytic integrated ozone destroyer, decomposition of excess ozone gas.
◆高精度臭氧水浓度分析仪，置程达150ppm
High precision ozone water concentration analyzer, range up to 150ppm.
◆ 可选多路臭氧水出口，适配多个Chamber
Optional multiple ozone water outlets, suitable for multiple chamber.
◆ 可选Reclaim模式，非制程时节省超纯水
Optional Reclaim mode for saving ultrapure water when not in process  
◆ SEMI S2,S23认证，CE认证
SEMI S2, S23 certification and CE certification.

臭氧水分解设备
DIO₃ Water Killer

技术特点／technical teatures：
◆臭氧水分解能力90％以上
Ozone water decomposition capacity of more than 90%.
◆物理化学法分解，极低的能耗
Physicochemical decomposition, very low energy consumption.
◆SemIS2认证
SEMI S2 certification

应用场景/Application Scenario：
◆ 臭氧水排废前分解，与臭氧水机台配套使用
Decomposition of ozone water prior to discharge, used in conjunction with ozone water units