P.R.A.

松戸市,  千葉県 
Japan
http://www.pra.jp/
  • 小間番号4008

PRAでは、COMDEL社製、RF電源に加えて、以下の自社開発品の展示を行います。
① PRA 1.5 
      300mm PVD装置用 1.5KV ESC電源
② PMU2-1 
      PRA製マッチングネットワーク (13.56MHz, 5KW)
③ 位相シフター
      クローズドループ方式 13.56MHz RF位相シフター
      オープンループ方式 13.56MHz RF位相シフター


 出展製品

  • マッチャー
    半導体製造装置に効率良くRF 信号を送るための整合器。主に半導体製造工場で利用される製造装置周辺機器です。...

  • プラズマを効率良く発生させるためには、RF電源と半導体製造装置間のインピーダンス整合が必要となります。従来の整合器を用いた場合、発生する問題点として、

    1. 装置内部品の定格不足により劣化が発生

    2. 部品の劣化や故障が定期的に発生するため、寿命が短い

    といった点が挙げられます。当社では従来品の問題点を改善し、平均故障間隔(Mean Time Between Failure; MTBF)の大幅な向上や、プロセス互換性の対策を施すことにより、新規取り付けにも問題無く従来品と載せ変えが可能なマッチャーを開発いたします。

  • ESC電源
    シリコンウェハの静電吸着に用いる直流高電圧電源になります。 回路基板の設計段階から自主製作することで、ESC電源が持つ従来の問題点を改善し、低コスト・短納期・長寿命を実現しております。...

  • 半導体素子を作るシリコンウエハや液晶パネル用のガラス基板などを扱う際に、これらを装置の真空チャンバー内で吸着・固定させることが必要になります。その時にツメで固定する方法ではキズが付きやすく、特定の部分に強い力がかかって欠ける原因にもなります。また、真空中なので吸盤のように減圧して吸い付ける方法も使えません。そこで、静電気を利用した方法が出て来ます。これにはいくつかタイプがありますが、よく使われるのは、セラミックスでできたプレートの中に一組の電極を埋め込んだ方法です。

    シリコンウェハに対する吸着力はプレート表面に出ている電荷の量によって決まります。この電荷を発生させるために高電圧電源( ESC Electric Static Chuck 電源)が必要となります。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
Yes
製品展示/Displaying Equipment
Yes
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
半導体/Semiconductor