常圧CVD装置の天谷製作所へようこそ。伝統的な連続式常圧CVD装置に加え、枚葉式装置を開発。進化を続けます。
枚葉式常圧CVD装置 A200V
少量多品種から大量生産までカバーする枚葉式常圧CVD装置です。フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル制御、埋め込み性能を発揮します。
連続式常圧CVD装置 AMAX800V
伝統的な連続CVD装置の生産性をさらに上げた高性能装置です。SiCトレーの採用による重金属汚染低減、トレースピードを従来比1.5倍に高め、1時間当たり100枚の8インチウェハの処理が可能になりました。
連続式常圧CVD装置 A6300S
6インチ以下の小口径ウェハを処理する大量生産装置です。装置のコンパクト化、重金属汚染対策を施し、1時間当たり120枚の6インチウェハを処理が可能です。
液晶基板処理用常圧CVD装置
研究用G4.5ガラス基板処理装置を開発いたしました。低温SiH4/O3プロセスでSiO2膜の成膜用途を開拓しています。。
中古装置・リファービッシュメント
弊社製中古装置、リファブ装置の提供をいたします。