エイチ・ティー・エル

立川市,  東京都 
Japan
http://www.htlco.co.jp
  • 小間番号5622


株式会社エイチ・ティー・エルの出展ブースにぜひお立ち寄りください。


 出展製品

  • ハイデルベルグ・インストルメンツ / VPG+ 1400
    ハイデルベルグ・インストルメンツ社製1400 x 1400 mm 『ラージ・エリア大型露光描画装置』...

  • VPG+『超』ハイ・スピード露光描画エンジンを搭載しより高い描画スループットを実現しました(同社従来比で約3倍)。TFTアレイ、カラーフィルター、ITOなどのディスプレイ業界のアプリケーションを対象としています。
  • アラディアンス(ARRADIANCE) GEMStar ALD シリーズ
    アラディアンス(ARRADIANCE)社製『デスクトップ型 原子層堆積装置』...

  • 成膜均一性に優れたコンパクトなプラズマALD
    ・コンパクトなデスクトップ型
    ・優れた成膜の均一性
    ・試料:ウェハー8インチまで、高さ2.54cmの立体構造物、パーティクル(粉体)、CNT
    ・プレカーサ:Max 8種類
    ・プラズマALD対応(オプション)
    ・チャンバー温度制御:Max 300度対応
    ・(オプション:基盤加熱 Max 500度)
  • PVA TePla / SAM300
    走査型超音波顕微鏡...

  • 超音波による非破壊内部検査
    R&Dから量産現場でのフルオート機までラインナップ
    より微細にそして高周波数トランスデューサを業界唯一複数台搭載し高スループット
    適用例: 実装基板、接合ウエハー、ディスクリート/コネクター、単結晶インゴットなど
  • ソルメイツ(SolMateS) / SIP 1200
    ソルメイツ(SolMateS)社製 パルス・レーザ堆積装置 ...

  • 1. 200mm waferサイズまでのパルスレーザ堆積法による成膜が可能
    2. 高パルスエレルギーのエキシマレーザを使用、このためCVD法では成膜が困難であった重金属を含む多元素系材料の成膜が容易
    3. ターゲット材料と薄膜の成分元素のずれが少ない
    4. 基板へのダメージが少ない
    5. 成膜温度は室温から800℃
    6. 全自動運転
    7. 4個の独立した成膜材料を搭載可能。パワーキャビネット、レーザ発振器、光学系、ガス系を内蔵した全自動システム
  • ブイ・テクノロジー(V-Technology) / ヴィーナス・シリーズ
    ブイ・テクノロジー(V-Technology)社製『精密微小寸法(CD)測定装置』...

  • ・高精度、高速オートフォーカス
    ・透過率測定、Phase Shift Angle測定等の多彩なオプションに対応

 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
No
製品展示/Displaying Equipment
No
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
その他/Other, 半導体/Semiconductor