主要エッチャーメーカーに対応
プラズマエッチャーチラー 『ThermoRack1201』
半導体製造工程のプラズマエッチングにおける温度制御チラーとして最適にデザインされています。
ペルチェモジュールによる熱電原理に基づいた温度制御方式で、素早い温度応答性と高い温度安定性で冷却/加熱を制御します。±0.05℃の温度安定性でウエハー間、ロット間のバラつきを改善します。(First wafer effectの削減)また消費電力も従来のチラーに比べ、最大93 %削減できます。モジュールは7個のペルチェデバイスで構成されており、たとえ1個の不具合が発生した場合でも約85 %の能力が維持されます。
■素早い温度応答性
■優れた温度安定性
■騒⾳・振動を低減
■フロンガス不使用
■Fluorinrert Galdenに対応
■消費電⼒を最⼤93 %削減
■19インチラックに収まる省スペース