光洋サーモシステム

天理市嘉幡町229,  奈良県 
Japan
http://www.koyo-thermos.co.jp
  • 小間番号3709


SiC、GaN、IGBTパワー半導体向け熱処理装置、MEMS、OLED用熱処理装置を紹介。ミニマルを実機展示。

SiCパワー半導体向け熱処理装置(活性化、酸窒化、コンタクトアニール)や、
GaNパワー半導体、IGBTパワー半導体向け熱処理装置、MEMS、OLED用熱処理装置までご紹介します。
また、最新パッケージ技術のFan-Out用(FO-WLP)装置、面発光レーザー(VCSEL)の低温Wet酸化処理における他社には出来ない温度性能をご紹介いたします。
OLEDについては、フレキシブルOLED、透明PIQ、ハイクリーンな装置を提案いたします。
コンパクトな実験機としてミニマルを実機展示いたします。
また、当社では各種デモ機も保有しており、プロセステストにも対応していますので、お気軽にご相談ください。


 出展製品

  • 活性化アニール用縦型炉
    ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまでお使いいただける縦型炉です。 SiCの活性化アニールの超高温プロセスにも対応しながら、炉内は当社独自のメタルフリー構造になっています。...

  • ミニバッチ、50枚の処理が可能で、6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応します。

    SiCの活性化アニールの超高温プロセスにも対応します。

    炉内は当社独自のメタルフリー構造になっています。

  • SiCゲート絶縁膜形成用縦型炉
    生産ラインにフレキシブルに対応する縦型炉です。...

  • 幅広いウェーハサイズに対応し、処理枚数も選択可能で、生産ラインにフレキシブルに対応できる縦型炉です。

    二珪化モリブデンヒータの採用によりSICパワー半導体のゲート酸窒化などの処理に対応可能です。

    炉内は当社独自のメタルフリー構造を採用しています。

  • MEMS用LPCVD縦型炉
    生産ラインにフレキシブルに対応する縦型炉です。...

  • 幅広いウェーハサイズに対応し、処理枚数も選択可能な、生産ラインにフレキシブルに対応可能な縦型炉です。

    当社独自のLGOヒータの採用で、LPCVDの比較的低温域でも優れた温度分布の処理が可能です。

    低温アニールや低応力のシリコンナイトライド膜、ポリシリコンなどのLPCVDプロセスに対応します。

  • 面発光レーザー(VCSEL)用縦型炉
    低温WET酸化やアニールなど、面発光レーザー(VCSEL)製造工程に必要な熱処理プロセスに対応します。...

  • ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまで対応できる縦型炉です。

    当社独自のLGOヒータ採用により、低温域の温度再現性、制御性が非常に優れており、低温WET酸化やアニールなど、VCSEL製造工程に必要な熱処理プロセスに対応します。

  • Fan-Out用クリーンオーブンシステム
    後工程(パッケージ工程)のFan-Out(FO-WLP)用全自動クリーンオーブンです。...

  • 300mmのFan-Outウェーハに対応し、特殊ボートの採用で反りのあるウェーハにも対応しています。

    WL-CSPなどの再配線工程のBCB、PI、PBOなどのキュア処理に対応しています。


 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
No
製品展示/Displaying Equipment
Yes
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
MEMS, パワー半導体/Power Semiconductors, 半導体/Semiconductor