高千穂商事

渋谷区,  東京都 
Japan
http://www.takachiho.biz
  • 小間番号5406


ALD用有機金属系材料を始めとする半導体材料、エキシマレーザーガス、液体材料供給装置、可搬式除害装置を展示致します。

当社は自ら半導体材料を始めとした各種ガスを製造する一方で、グローバルネットワークを駆使して、
地球規模であらゆるガスを調達し極少量から大量(ISOコンテナ)まであらゆるサイズの容器でどこにでも
お届けできます。ぜひ当社ブース(Hall 5-5406)へのご来場をお待ちしております。


・半導体用エッチング、クリーニング用フロン系ガス
 オゾン層を破壊と言われているフロン系ガスですが、地球温暖化係数をより少なくすることにより、
  地球環境にやさしいガスを紹介致します。

・72GeF4 (72エンリッチゲルマン)
  イオン注入装置に使用しているGermanium中に存在する同位体うちで自然存在比が高いのは72Geです。
  その72Geの濃度を高めた高千穂のエンリッチ72GeF4は、同じガス流量で2Geイオン電流が多く得られ、
  製造 スループット向上に貢献します。また、72Geを選択することにより、Asコンタミの影響を排除
  できます。

・11BF3 (11エンリッチボロン)
  国内企業で唯一複数のソースから安定供給を受けており、価格競争力、供給安定性、在庫量に自信が
  あります。貴社の装置に合わせた適切な容器サイズにて供給いたします。

・ハザードスイーパーTM
  日本で唯一の可搬式局所排気用(モバイル)除害クリーナーです。特殊材料ガスの供給装置、機器の改造、
  点検、修理、廃棄など毒性ガスを使用する現場を安全にクリーンな環境を維持できます。今年はALD用
  薬剤もご準備致しました。可搬式のため、複数の同一ガス設備に対して1つのハザードスイーパーTM
  対応できます。さらにミストスクラバーTM(当社製品)を接続することで可燃物を吸引した際の安全
  性を向上できます。


・ALD用先端有機金属系材料
  薄膜を形成させるためALD(Atomic Layer Deposition)用途に向けた世界最先端の有機金属系材料及び
  ガスをご紹介致します。バブラーボトル(有機金属材料を入れる容器)を展示致します。
  試作研究用50mlから製作が可能となりますので、ぜひご覧ください。

・トリメチルアルミニウム(LED製造用 水素希釈ガス)
 光学ドライブや通信機器にはレーザーダイオード(LD)が使用されています。これらLED,LD等の製造に
 使用されるトリメチルアルミニウムを、水素で希釈し混合ガスにしました。始めから希釈されている
 ことにより、従来のバブリングによる供給に比べ安定した濃度で供給できることに自信があります。
 貴社製品の品質安定性向上に、ぜひご検討ください。

・エキシマレーザー用ガス
 当社では、1997年よりエキシマレーザー用F2ミックスガスを販売しており、世界中から独自に調達
 ルートを確保したネオンによる混合ガスも承ります。貴社ご希望の濃度に合わせて製造致しますので、
 ご相談ください。 (Kr/Ne , Ar/Kr/Ne , Xe/Ar/Ne , F2/Kr/Ne , F2/Ar/Ne , Xe/Ne , HCl/H2/Ne)

・レガシー半導体用高純度ガス
 半導体産業の草創期より、半導体製造向けの高純度ガスを供給してまいりました。特にイオン注入に
 おいては1969年よりガス容器の交換業務を開始し、また、1981年には後の業界規格となる0.35L容器も
 取り扱いを開始しました。

・SiC用(パワー半導体)窒素フリーガス
 SiC基板において,ドーパントとして作用する窒素を極限まで除去したZero Nitrogen (ZeN) グレード
 製品のご紹介。
 気相成長用高純度プロパン、エチレン、プロピレンなどのハイドロカーボン、ドーピング用各種シラン
 などの窒素フリー化に取り組み N2濃度として高純度EXプロパンC3H8 (残留N2濃度0.5ppm未満)、高純度
 モノシランSiH4 (残留N2濃度0.1ppm未満)を販売中。保証のみならず、残留濃度の実測値報告サービスも
 行います。さらなる低濃度製品の研究・開発にも取り組んでおります。
 窒素を始め、貴社で監視したい不純物をお教えください。

・イオン注入用ガス国産SDS®  
  米国DOTの認証を受けた安全性の保証された容器にて、大気圧以下でインプラ用ガス貯蔵が可能な
 SDS®2,SDS®3を国内で独占製造しています。 
 Note: Safe Delivery Source, SDS®, are trademarks of Entegris, Inc. in the U.S., other countries, or both.

セミコンジャパンに唯一のガスメーカーとして出展を継続しております。ぜひご来訪をお待ちしております。
下記URLより当社HPをご覧ください
 http://www.takachiho.biz/index2.html


 出展製品

  • 半導体材料ガス
    ALD用有機金属系半導体材料、地球環境にやさしいフロン系ガス、エキシマレーザーガス、可搬式除害装置を展示致します。...

  • 当社は自ら半導体材料を始めとした各種ガスを製造する一方で、グローバルネットワークを駆使して、
    地球規模であらゆるガスを調達し極少量から大量(ISOコンテナ)まであらゆるサイズの容器でどこにでも
    お届けできます。ぜひ当社ブース(Hall 5-5406)へのご来場をお待ちしております。


    ・半導体用エッチング、クリーニング用フロン系ガス
     オゾン層を破壊と言われているフロン系ガスですが、地球温暖化係数をより少なくすることにより、
      地球環境にやさしいガスを紹介致します。

    ・72GeF4 (72エンリッチゲルマン)
      イオン注入装置に使用しているGermanium中に存在する同位体うちで自然存在比が高いのは72Geです。
      その72Geの濃度を高めた高千穂のエンリッチ72GeF4は、同じガス流量で2Geイオン電流が多く得られ、
      製造 スループット向上に貢献します。また、72Geを選択することにより、Asコンタミの影響を排除
      できます。

    ・11BF3 (11エンリッチボロン)
      国内企業で唯一複数のソースから安定供給を受けており、価格競争力、供給安定性、在庫量に自信が
      あります。貴社の装置に合わせた適切な容器サイズにて供給いたします。

    ・ハザードスイーパーTM
      日本で唯一の可搬式局所排気用(モバイル)除害クリーナーです。特殊材料ガスの供給装置、機器の改造、
      点検、修理、廃棄など毒性ガスを使用する現場を安全にクリーンな環境を維持できます。今年はALD用
      薬剤もご準備致しました。可搬式のため、複数の同一ガス設備に対して1つのハザードスイーパーTMで
      対応できます。さらにミストスクラバーTM(当社製品)を接続することで可燃物を吸引した際の安全
      性を向上できます。


    ・ALD用先端有機金属系材料
      薄膜を形成させるためALD(Atomic Layer Deposition)用途に向けた世界最先端の有機金属系材料及び
      ガスをご紹介致します。バブラーボトル(有機金属材料を入れる容器)を展示致します。
      試作研究用50mlから製作が可能となりますので、ぜひご覧ください。

    ・トリメチルアルミニウム(LED製造用 水素希釈ガス)
     光学ドライブや通信機器にはレーザーダイオード(LD)が使用されています。これらLED,LD等の製造に
     使用されるトリメチルアルミニウムを、水素で希釈し混合ガスにしました。始めから希釈されている
     ことにより、従来のバブリングによる供給に比べ安定した濃度で供給できることに自信があります。
     貴社製品の品質安定性向上に、ぜひご検討ください。

    ・エキシマレーザー用ガス
     当社では、1997年よりエキシマレーザー用F2ミックスガスを販売しており、世界中から独自に調達
     ルートを確保したネオンによる混合ガスも承ります。貴社ご希望の濃度に合わせて製造致しますので、
     ご相談ください。 (Kr/Ne , Ar/Kr/Ne , Xe/Ar/Ne , F2/Kr/Ne , F2/Ar/Ne , Xe/Ne , HCl/H2/Ne)

    ・レガシー半導体用高純度ガス
     半導体産業の草創期より、半導体製造向けの高純度ガスを供給してまいりました。特にイオン注入に
     おいては1969年よりガス容器の交換業務を開始し、また、1981年には後の業界規格となる0.35L容器も
     取り扱いを開始しました。

    ・SiC用(パワー半導体)窒素フリーガス
     SiC基板において,ドーパントとして作用する窒素を極限まで除去したZero Nitrogen (ZeN) グレード
     製品のご紹介。
     気相成長用高純度プロパン、エチレン、プロピレンなどのハイドロカーボン、ドーピング用各種シラン
     などの窒素フリー化に取り組み N2濃度として高純度EXプロパンC3H8 (残留N2濃度0.5ppm未満)、高純度
     モノシランSiH4 (残留N2濃度0.1ppm未満)を販売中。保証のみならず、残留濃度の実測値報告サービスも
     行います。さらなる低濃度製品の研究・開発にも取り組んでおります。
     窒素を始め、貴社で監視したい不純物をお教えください。

    ・イオン注入用ガス国産SDS  
      米国DOTの認証を受けた安全性の保証された容器にて、大気圧以下でインプラ用ガス貯蔵が可能な
     SDS2,SDS3を国内で独占製造しています。 
     Note: Safe Delivery Source, SDS, are trademarks of Entegris, Inc. in the U.S., other        countries, or both.

    セミコンジャパンに唯一のガスメーカーとして出展を継続しております。ぜひご来訪をお待ちしております。
    下記URLより当社HPをご覧ください
     http://www.takachiho.biz/index2.html


 追加情報

初出展/New Exhibitor
No
新製品/New Products
Yes
製品展示/Displaying Equipment
Yes
デモンストレーション/ Product Demonstrations
No
産業・技術分野/ Industries/Technologies
プラスチック/有機/プリンテッドエレクトロニクス/Plastic/organic/flexible electronics, パワー半導体/Power Semiconductors, 半導体/Semiconductor