たちは1991年、半導体製造装置の専門商社としてスタートしました。
今日では電子部品や医療、食品など業界の垣根を超えたモノづくりを行っていますが、中でも半導体については豊富な知見を有しています。
ブースでは、フォトマスクを使用せず、ウェハ上に直接描画を行うマスクレス露光装置や、全自動でめっき液の分析・管理を行う装置、半導体工場でもご使用いただける自走式ロボットなど、前工程から後工程まで幅広くカバーした製品をご紹介致します。
ほかにも、ウェハの追加工にご使用いただける小型微細加工機や、高いアライメント精度でチップonウェハ／ウェハonウェハなどの接合が行えるSAB接合装置など、半導体業界でお役立ていただける製品がご案内できますので、お気軽にブーススタッフにお声がけください。
DMDによるウェハ上への直接描画で、半導体デバイス試作にかかる時間と費用を劇的に削減したマスクレス露光装置。
SEMICON Japanでは、当社が自社開発を行った、最大12インチウェハ対応のME-120F（旧・PLS-3000）をご紹介します。
露光結果のジャギーが使用用途の妨げになる、というお客様の声に応えるため、2016年よりピクセル補完技術を応用したファイン露光モードを標準搭載。スループット時間は長くなりますが、斜線や曲線のデータ再現性が飛躍的に向上します。
IoTに必要なセンサーモジュールを可能にするFan-Out型パッケージの試作を高効率化するため、ピーエムティーではミニマル装置群を中心とした0.5インチ向けのFOWLP試作ライン：ミニマルファウンドリを本社内に開設しました。
半導体の生産工程で使用するめっき液の分析や補充を全自動で行う装置です。
“デスクトップリソグラフィ”をキーワードに、装置サイズを徹底的に小型化したマスクレス露光装置です。
独自のフローティング構造で振動を抑制するため防振台が不要。真空吸着用のエア源も内蔵しているため、圧縮エアや冷却水も不要です。操作もわかりやすく、フォトリソグラフィに不慣れなお客様でも安心してご使用いただけます。
搭載する機能を絞り込むことで圧倒的な低価格を実現しました。
*『PALET』はネオアーク株式会社の製品です。
