IMPULSE PLUSは各種半導体製造装置に組込み可能なメトロロジーシステムです。製造装置に組込むことで欠陥プロセスの迅速なフィードバックを可能にし、工場全体の処理能力に貢献します。
ロードポートに組込めるコンパクトな設計ながら、最新の光学設計を取り入れ、従来のスタンドアローン装置に匹敵する正確さと精度を持ち合わせています。
DUVの光学系により薄膜に対応しているだけでなく、積層膜の同時測定やパターン寸法測定(CD, Height, SWA)、そして膜質解析の能力を持ち合わせています。
業界最高のスループットにより、製造装置側への影響を与えることなくPre/Postの測定を実現します。
また、Nanometrics社の搬送フロントエンドモジュール(EFEM) "LynX"と組み合わせることで、全自動高速 OCD & 膜厚測定装置として機能します。