大日本科研

向日市,  京都府 
Japan
http://www.kakenjse.co.jp
  • 小間番号4124


当社の展示ブース(小間番号:4124)では、前工程の重要なプロセスとなる露光機について、パネル・動画を展示しております。

株式会社大日本科研では、半導体・ディスプレイ・電子部品用露光装置をメインに、設計・製作からメンテナンスまで一貫したサービスを行っております。今回はマスクレス露光機をはじめとした各種露光装置ををパネルや動画にて展示・ご紹介いたします。皆様のご来場を心よりお待ちしております。


 出展製品

  • マスクレス露光装置
    前工程における露光のプロセスにて、フォトマスクを使用せず、レーザーを用いて直接基板にパターニングできる露光装置です。...

  • 特徴

    DMDを用いた露光方式であるが、内製するMLA(Micro Lens Array)を搭載することで、Point Array方式を実現。

    解像度とタクトタイムUPを両立させた画期的な手法。

     ・対応線幅、1μm/3μm/5μmなどラインナップあり

     ・タッチパネルを使用した使いやすいユーザーインターフェイスに改良

     ・基板サイズ、手動/自動搬送対応などカスタマイズ対応可能

  • コンパクト両面マスクアライナー MA-1200A
    座りながら作業できることも考慮したコンパクトな露光装置を実現。基板セットはマニュアルながらもアライメント(裏面オートアライメントも可能)はオートにて処理可能。割れ基板対応など使い勝手にこだわった装置。...

  • 特徴

    装置機構改良により裏面アライメント精度向上。Φ6"までをターゲットとして角基板などにもカスタマイズ可能。

  • Multi Mask Aligner
    手動と自動の両方使用したいという要望をかたちにした露光装置。 自動で使用する場合はC to C(リターン式)で、少量多品種や半量産などに適した装置。...

  • 特徴

    手動と自動の両方での使い勝手を追求した装置。

    ・自動の場合はC to C搬送。搬送系はロボットではなく自社で内製。

    ・割れ基板における単眼アライメントも対応可能。