CHYI DING Technologies

新竹県, 
Taiwan
http://www.chd-tech.com.tw
  • 小間番号4054


お客様のために完璧を追求。顧客至上がモットー。 気流を清浄する優れた工程。

奇鼎科技は空調洗浄、微細汚染除去観測および省エネ工程に関する精密機器カスタマイズを専門に扱うメーカーです。

主なサービス内容は、空調洗浄、温湿度管理、空気中の分子状化学汚染物質(AMC)に関連する製造工程周辺設備、省エネルギーコンサルティング、クリーン医療サービスなどの、製造工程に関連する業務です。

当社は、国内大型工場のクリーンルーム施工により創業し、創新・研究開発の精神を主軸としています。2006年に「設備研究開発部」を創設し、システムエンジニアリングの精神を維持しています。空気中の分子状化学汚染物質の除去、オンライン観測などのカスタマイズされた精密機器を提供しています。先進的な製造環境のボトルネックを突破し、お客様のために、製造環境の空気品質の制御・観測を行うことで、ハイテク工場の製造工程における歩留りを大きく向上させます。

2012年に「クリーンルーム外気空調ボックス省エネルギー水洗装置」がSBIR卓越研発成果奨を獲得しました。また、台湾IBM「省エネルギーサービス」の唯一の適格サプライヤーとなっています。国を超え、整理された角度から、グローバルな省エネコンサルティング/設計/施工サービスを提供しています。


 出展製品

  • 精密恒温恒湿機 (Thermal Control Unit, TCU)
    パネル製造、ウェハー工場、IC封止等の検査工場で精密溫湿度制御を提供し、露光機と塗布・現像設備の良品率アップを促進させることが出来ます...

  • 【仕様】

    ■ 清浄度制御:ISO Class 1
    ■ 温度制御精度: ±0.1℃ ~ ±0.01℃
    ■ 湿度制御精度:±2%RH  ~ ±0.5%RH
    ■ 装置に内蔵された温湿度プロファイル資料、警報装置
     (アラーム)、遠隔監視制御と自動防御機能付き。

    【応用種類】

    ■ 産業分類
    半導体製造、フラットパネルディスプレイ(FPD)
    精密機器工業加工、精密測量、学術研究
    ■ サプライチェーン
    パネル製造、カラーフィルター、
    ウェハー製造とIC封止等の検査工場
    ■ 応用範囲
    RGBレジスト塗布、露光現像、
    レンズ研削レーザー加工、幾何学の寸法測量 

  • 恒温恒湿微汚染除去設備 (Thermal AMC Prevention Unit, TAU)
    ■ 製品エッチングと現像工程の良品率向上 ■ 露光装置鏡面の曇りを防止し、機器の長寿命化。 ■ 装置内部の腐食を防止する(銅管類材質) ...

  • 【仕様】

    ■ 清浄度制御: ISO Class 4
    ■ 温度制御精度:±0.5℃ ~ ±0.05℃ 
    ■ 湿度制御精度:±5%RH ~ ±0.5%RH 
    ■ 飛散汚染物質分子除去:>80% in Main AMC
    ■ 装置に内蔵された温湿度プロファイル資料、 警報装置(アラーム) 、遠隔監視制御と自動防御機能付き。

    【応用種類】

    ■ 産業分類
    半導体製造、フラットパネルディスプレイ(FPD)
    ■ サプライチェーン
    パネル製造、カラーフィルタ、ウェハー製造とIC封止等の検査工場
    ■ 応用範囲
    RGBレジスト塗布、露光現像、
    露光装置鏡面の曇りの防止

  • 有機溶剤回収設備 (Solvent Recycle Unit,SRU)
    有機気体を回収し、有効なフォトレジスト剤を再利用可能...

  • 【仕様】

    ■ 有機気体を回収し、有効なフォトレジスト剤を再利用可能
    ■ 新液の使用量を大幅に削減
    ■ Solvent回収率60%以上
    ■ Up time >99%
     (VCD Coater設備がshut downしても本体の運転へ
       の影響はありません)

    【機能】

    Coatingのプロセスでは、塗布ノズルを常に洗浄しなければならないため、Coater VCD exhaustの気体を回収しています。当社の有機溶剤回収設備は回収し気体から回収したソルベントを純化した再利用いたします。

    PGMEA Coaterに適用。

  • 多種ガス オンライン解析システム (Inline VOC Monitoring Equipmet)
    ■ 高機能の半導体製造プロセスで、酸やアルカリなどの有機物質をオートでサンプル収集と分析を行います ■ 工数削減を目的としたGEM機能付き...

  • 【仕様】

    ■ sub-ppbレベルでの測定可能
    ■ 毎15分1回のデータ分析
    ■ IAE-900 (1台)で64カ所の測定
    ■ 最大サンプル収集の距離 100m
    ■ VOCの分析も可能

    【応用種類】

    ■ 産業分類
    半導体製造、フラットパネルディスプレイ(FPD)
    ■ サプライチェーン
    ウェハー製造工場、パネル製造工場、IC封止、検査工場、フープ(FOUP)
    ■ 応用範囲
    露光プロセス、エッチングプロセス 、化学気相成長プロセス、クリーンルーム、ウェハー保管

  • 製造プロセスにおける高濃度AMC除去ユニット (AMC Control Unit, ACU)
    独自に開発した水触媒フィルターを採用、VOCの親水性を更に高めることで、水によりAMCを除去する、効果が持続し低コストのAMC除去方法です。...

  • 【特長】
     • フォトレジストSolventによる最適な除去プラン
     • 除去効率は使用時間により劣化することはありません。
     • ppb ~ ppm level 濃度の制御が可能。
     • 除去リウはいずれも90%以上を達成。
     • 低コスト、高効率、消耗剤なし。

    【効果】

    コーティングCoating
    • 製造プロセスの保護:NH3 SO2
    • 排気ガス処理:NMP PGMEA PGME
      フォトレジストStripperへ
    • 排気ガス処理:DMSO NMP
      エッチング Eching
    • 排気ガス処理:CH3COOH HF