SPPテクノロジーズ

千代田,  東京都 
Japan
http://www.spp-technologies.co.jp
  • 小間番号6462


オープンセミナー聴講者にはプレゼント! カフェスペースでちょっと休憩していきませんか? ハッピーアワーも遊びに来てくださいね

SPPテクノロジーズは、MEMS・半導体製造に不可欠なSi深掘り装置(DRIE)において、2019年6月で発売25年目を迎えたトップメーカとして、英SPTS社と蓄積した経験をご紹介します。
また、新プラズマ源を搭載したDRIE最新鋭機をはじめ、犠牲層エッチングや厚膜CVD、圧電薄膜スパッタ等の取扱装置に関する最新技術をご紹介します。
さらに、2015年6月にSPTS社より米国シリコンバレーを拠点とするThermal Products事業を譲り受け、100%子会社SPT Microtechnologies USAとして運営を開始しました。この事業についてもご紹介します。

そして、3次元実装(3D)やパワー半導体、MEMS、LEDなどのデバイス向けソリューションをご提案します。

最後に、ハッピアワーでは、日本酒を振舞いますので、是非お立ち寄り願います。


 出展製品

  • シリコン深掘り(DRIE)装置(Proxion、Predeus、Pegasus、Pulsar)
    MEMS・半導体製造に不可欠なSi深掘り装置で、今年発売25年目を迎えた...

  • ・高精度エッチング
    ・高均一性
    ・低スキャロップ・高速エッチング
    ・SOIノッチフリー
    ・高マスク選択比
    ・高アスペクト比エッチング
  • ミニマル装置(Si深掘り、メタルドライエッチング、TEOSプラズマCVD、SiNプラズマCVD)
    ミニマルファブ対応のミニマル装置...

  • 【Si深掘り】
    ・SOIノッチフリー
    ・高マスク選択比
    ・高アスペクト比エッチング

    【メタルドライエッチング】
    ・高選択比
    ・垂直なエッチング

    【TEOSプラズマCVD】
    ・厚膜成膜
    ・低ストレス

    【SiNプラズマCVD】
    ・低温成膜
    ・低ストレス

  • SiC、化合物/酸化膜エッチング装置(Spica、Sirius)
    SiCや化合物/酸化膜のエッチング装置...

  • 【Spica】
    ・低ダメージ
    ・高エッチング量制御性

    【Sirius】
    ・高速エッチング
    ・高アスペクト石英エッチング

  • 熱処理装置(SPT USA社AVP/RVP/RVP-300)
    Poly-Si膜やSiN膜の常圧CVD装置及び熱処理装置...

  • ・厚膜Poly-Si
    ・高スループット
    ・低ストレスSiN
    ・低コスト
  • プラズマCVD装置(Cetus、SPTS社Delta)
    酸化膜や窒化膜の成膜用プラズマCVD装置(SiH4系、TEOS系、液体材料系)...

  • ・低温成膜
    ・低ダメージ成膜
    ・厚膜成膜
    ・低ストレス
    ・高耐圧
    ・良密着性