セルバック

京都市,  京都府 
Japan
http://www.selvac.co.jp
  • 小間番号7107

CVDプロセスの新技術をご紹介します。

半導体の高集積化に伴い、配線パターンがより微細化しています。

新CVDプロセス技術は、微細構造に対して絶縁膜の埋込みや

CMP工程を低減する平坦化成膜を開発しました。

Low-k膜も耐久性のある誘電率調整も行っています。