セルバック

京都市,  京都府 
Japan
http://www.selvac.co.jp
  • 小間番号7107

CVDプロセスの新技術をご紹介します。

半導体の高集積化に伴い、配線パターンがより微細化しています。

新CVDプロセス技術は、微細構造に対して絶縁膜の埋込みや

CMP工程を低減する平坦化成膜を開発しました。

Low-k膜も耐久性のある誘電率調整も行っています。


 出展製品

  • 高密度プラズマCVD
    高密度プラズマにより、常温レベルの低温で成膜が可能...

  • ICP-CVD(高密度プラズマ)は、低温でカバレッジ性良く成膜ができ、凹凸形状に対して平坦化も可能です。

    ALCVDとしても使用する事ができ、低温でSiO2,SiNなどをナノレベルで制御する事も可能です。