ユニテンプジャパン

町田市,  東京都 
Japan
https://www.unitemp.jp/
  • 小間番号3931


 出展製品

  • 真空・プロセスガス高速アニール装置
    急速・均一な熱処理を必要とされる幅広いアプリケーションに応用頂ける多目的な装置です。...

  • 最大到達温度1200℃ ・ 高速昇温/降温に対応 ・ 多彩なガスパージ環境に対応

    主なアプリケーション

    • SiからSiC、GaN、Ga2O3材熱などの様々な熱処理
    • イオン注入後の結晶活性化
    • オーミック性接合形成
    • Low-k材熱処理
    • 水素アニール処理によるSiラフネス低減