ビーム

町田市,  東京都 
Japan
http://www.beams-inc.jp
  • 小間番号2353

ビーム株式会社では、輸入商社としてレーザー発振器、レーザー加工機をメインに幅広いラインナップを揃えた製品を販売しております。弊社ブースでは、LLO装置、プローブカード加工装置をはじめ、長寿命ガスライフのエキシマレーザー、高出力の固体レーザー、高出力ファイバーレーザーを紹介しております。弊社内にラボもある為、試作を重ねながらお客様の要望・用途に合わせた製品を提案させていただきます。ぜひ弊社ブースへお越しください。


 出展製品

  • MicroMaster
    波長248nm、308nmのエキシマレーザーを使用した均一ラインビームで基板から剥離するレーザーリフトオフ装置。...

  • 波長248nm、308nmのエキシマレーザーを搭載したレーザーリフトオフ装置。サファイア基盤からGanを剥離、ガラス基板とICチップの剥離の剥離を主に、アニーリング、ウェハボンディング、有機EL薄膜除去など45mm×1.2mmのラインビームで様々な用途に対応。8インチウエハ、リングフレーム付き9インチウエハも剥離可能。

  • PCD,PCM,PCRシリーズ
    プローブカードに対して機械加工では困難な加工を、バリ、破片なしに高精度の穴加工が行えるプローブカード加工装置。...

  • 窒化ケイ素のプローブカードに対して、従来機械加工では困難であった加工をK-jet社独自のプロセスにより様々な穴加工が可能にした加工装置。マイクロ単位の長方形や円形、ポケット、溝彫り、ザグリ加工、外形加工を破片やバリなく、精度±10µ以下、テーパー2µm以下(厚さ700µm以内)で高精度の加工が可能。

  • テーブルトップEUV軟X線照射装置
    次世代の半導体露光装置の光源であるEUV波長発生装置。...

  • YAGレーザー(1064nm,750mJ,6ns)を用いて、使用するガスにより2~20nmの波長を発生させる装置。レジスト材料の開発やマスク及び光学部品の検査・評価用としても必要とされ、ウォーターウィンドウ領域での生物試料の高分解観察用、物質相互作用の基礎研究用途で活躍。

  • TSST PLD
    試料をレーザーアブレーションさせ蒸発し発生した粒子を基板に堆積させ成膜するPLD装置。...

  • オランダ社製のレーザー成膜装置で、真空チャンバー内の材料にレーザーを照射し、アブレーションした物質を基板に堆積させ成膜する装置。RHEEDを使用する事で成膜過程をリアルタイムで制御可能。高品質の複合材料の成膜、ヘテロ構造の為最大6個のターゲットに対応。

  • IS,PX,FXシリーズ
    超高出力のナノ秒、ピコ秒、フェムト秒ダイオード励起極短パルス固体レーザー発振器。...

  • ドイツEdgeWave社製のテクノロジーを使用したダイオード励起高出力極短パルス固体レーザー。高出力が特長で、ナノ秒、ピコ秒レーザーは最大出力800W(IR)で4波長(1064、532、355、266nm)から選択可能。フェムト秒レーザーは最大出力400W(IR)で3波長(1030、515、343nm)から選択可能。要望に応じてカスタマイズ可能なので、様々な用途に合わせた微細加工や、理化学用途にも幅広く対応。

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