ナノメトリクス・ジャパン

品川区,  東京都 
Japan
http://www.ontoinnovation.com
  • 小間番号8124


Nanometrics社とRudolph Technologies社は合併し、Onto Innovationとなりました

Onto Innovationは、最先端技術からグローバルスケールまで幅広くカバーする、プロセスコントロールリーダーです。ナノスケールのトランジスタからミクロンレベルの配線に対する3D計測、ウェハーやパッケージに対するマクロ欠陥検査、金属配線、ファクトリーアナリシス、アドバンスドパッケージ向けリソグラフィーを提供します。半導体バリューチェーン全体にわたる幅広い提供により、最も重要な歩留まり、デバイスパフォーマンス、品質、信頼性の問題を解決します。Onto Innovationは、ユーザーがより賢く、より速く、より効率的に、クリティカルな工程を最適化するよう努めています。


 プレスリリース

  • Nanometrics社とRudolph Technologies社の合併が完了し、Onto Innovationとして始動します。

    グローバルな半導体用計測・検査装置およびソフトウェアテクノロジーのリーダーが、より幅広い製品ポートフォリオで、ウェハー製造・フロントエンドプロセスコントロール・アドバンスドパッケージを支援します。


 出展製品

  • ATLAS III+
    全自動多機能OCD & 膜厚測定装置...

  • ATLAS III+は、最新世代としてリリースされた、300mm量産ライン対応スタンドアローン型、アドバンスド・メトロロジーシステムです。薄膜、積層膜およびOCDパターン寸法測定に対し、高い能力でプロセスコントロールを支援します。光学系コンポーネンツ、ステージ位置精度、ソフトウェア機能の刷新により、ATLAS III+ OCDシステムは1Xnm世代などの複雑な先端デバイスの構造の測定をも可能にします。
  • IMPULSE+
    製造装置組込型 OCD & 膜厚測定装置...

  • IMPULSE+は各種半導体製造装置に組み込み可能なメトロロジーシステムです。製造装置に組み込むことで欠陥プロセスの迅速なフィードバックを可能にし、工場全体の処理能力に貢献します。

    ロードポートに組込めるコンパクトな設計ながら、最新の高額設計を取り入れ、従来のスタンドアローン装置に匹敵する正確さと精度を持ち合わせています。

    DUVの光学系により薄膜に対応しているだけでなく、積層膜の同時測定やパターン寸法測定(CD, Height, SWA)、そして膜質解析の能力を持ち合わせています。

    業界最高のスループットにより、製造装置側への影響を与えることなくPre/Postの測定を実現します。

    また、Onto Innovation社の搬送フロントエンドモジュール(EFEM) "LynX"と組み合わせることで、全自動高速 OCD & 膜厚測定装置として機能します。

  • QS4300 LynX
    高精度300mm用 FT-IRシステム...

  • QS4300はシリコンウェハ量産ライン対応の自動搬送機能付きFT-IRシステムです。

    非破壊・非接触で高精度な炭素/酸素濃度測定およびエピタキシャル膜厚測定等の検査で最先端デバイス向けシリコンウェハの品質向上に貢献しております。

  • NanoSpec II
    分光反射率式 小口径 膜厚測定システム...

  • 全波長領域に対して物質の屈折率(n)と消衰係数(k)を考慮する「波長分散モデル」による解析を併用することで、より精度の高い膜厚測定が可能な、小口径用の分光反射率式膜厚測定システムです。

    用途に応じて卓上型、もしくはロボットローダー付きの全自動型から選択可能です。

  • RPMBlue・VERTEX
    高速フォトルミネッセンス・欠陥マッピングシステム...

  • 半導体ウェハ全面のフォトルミネッセンスを、素早く高分解能でマッピングするシステムです。

    業界最高のスループットは、全数検査で歩留まり向上に貢献し、多くの機能は様々な製品の開発に効果と価値を提供します。

    ラインナップは2種類有り、用途・アプリケーションに応じて選択することが出来ます。