Forge Nano

Thornton,  CO 
United States
http://www.forgenano.com
  • 小間番号4334


今年初めてのsemicon Japanに出展するALD装置の会社です。皆様のご来場をお待ちしております。


 出展製品

  • APOLLO アポロ
    ハイスループットウエハーALD装置...

  • APOLLOは、完全自動のカセット・ツー・カセット方式のALDプロセスを提供し、低い所有コストで高いスループットパフォーマンスを実現します。 

     主な特長

    • 蒸着ウエハーサイズ 75~200mm
    • 超高速蒸着 120-300A/min
    • 250μm間隔でのメンテナンス
    • 廃棄物ゼロの排ガス処理システム
    • 最大90%のプリカーサ効率

      用途

    •  SiNハーメチックパッケージの排除
    • High-k誘電体コーティング
    • バリア金属膜
    • マイクロLEDウエハーのカプセル化
    • 環境、腐食、高電圧絶縁に対応するカプセル化
  • THEIA  テイア
    研究開発用ウェハーコーティングシステム...

  • THEIAは、商用モデルのAPOLLOで実証された設計と装置の構成要素を組み合わせ、比類のない性能、柔軟性、信頼性、安全性を実現した研究開発用パッケージです。THEIAは、常に変化する科学者やエンジニアのニーズに対応するため、現場でのアップグレードが可能です。THEIAは、研究開発から生産へのシームレスな移行を可能にします。THEIAで作成したレシピをAPOLLOに送ることで、シンプルかつストレートに商業規模の生産に移行することができます。

    主な特長

    • 現場アップグレードと拡張が可能
    •  超高速蒸着 120~300Å/分
    • 50μm間隔でのメンテナンス
    • 1ミリ秒以下の速度と1億サイクルの寿命を持つ独自のバルブ
    • 約1%のウエハー上およびバッチ間での均一性を実現

    用途

    • ALDプリカーサーの開発
    • 環境配慮型コーティング
    • 界面・接着層
    • 腐食防止
    • 耐摩耗性コーティング
    • 領域選択的化学物質の開発