半導体製造現場において室内のAMCs濃度の管理は重要な要素であるため、
その濃度は常に監視する必要があります。
従来の技術、例えばGC/MSを用いた測定の場合、その定量値はサンプリング時間に亘る平均濃度になってしまうだけでなく、定量結果を得るまでの分析に時間を要します。
SIFT-MSは、このAMCsの濃度変化を前処理なしでリアルタイムに測定できるため、製造現場における生産性が飛躍的に向上します。
また、オプションのマルチポート導入バルブにより、1台の装置で一つ以上の部屋をモニタリングをすることも可能となります。