自社開発の、金属膜厚測定装置（新製品：卓上型膜厚測定機）、全反射蛍光X線分析装置やホットプレートなどを展示しております。
弊社は、Ｘ線による「金属膜厚測定装置」、「全反射蛍光X線分析装置」（金属汚染分析装置）を自社で開発、設計、製造しております。
また、ウェーハや液晶基板用に開発されたホットプレートやヒーターブロックを始めとした「熱処理」を扱っております。
是非、弊社ブースにお立ち寄り下さい。
弊社にて開発、設計、製造しております、全反射蛍光X線測定装置（金属汚染測定装置）です。
GEM300通信、SEMI S2,S8に対応し、色々なところでお使いいただける装置です。
X線で金属膜厚を見る装置です。
X線で膜厚を測定する原理のうち、XRFとXRRの両方を搭載しており、薄膜から厚膜まで、金属膜に留まらず有機膜まで測定可能となっております。
レジスト等を乾燥させるホットプレートです。
装置組込みから研究用途まで対応致します。
小さいサイズから大きいサイズまで。
安価なものから高性能なものまで。
幅広く取り扱っております。