西村ケミテック

大阪市天王寺区堂ヶ芝1丁目,  大阪府 
Japan
http://www.nishimura-ct.co.jp/
  • 小間番号4331


自社製品を始め、海外の半導体装置・材料を取り扱っており、理解しやすい展示を心がけておりますので、是非一度ご来場ください。

弊社展示ブースにおいては、下記９つのアイテムを紹介させて頂きます。

１：西村ケミテック（日） スラリー/ケミカル希釈供給システム、D/C自動化システム、ドラム攪拌システム

２：Forth-Rite（米） CVD装置用エンドポイントディテクター

３：Unisem（韓） 排ガス除害装置

４：LOT　VACUUM製（韓） ドライポンプ（真空ポンプ）

５：三甲（日） 半導体ウェハ搬送容器

６：NvisANA（韓） ICP-MSシステム

７：KE MATERIALS（韓）有機金属材料（TMG・TMA・TMI・TEG）

８：MTI（韓）　MAC-シリーズ、Hyperシリーズ（ウェハー Saw工程の薬液、洗浄液、コーティング剤、剥離剤）

９：OCI（韓）過酸化水素水

今年は、弊社システムエンジニアリング部の開発装置として、ドラムキャビネット自動装置、ドラム攪拌装置を展示致します。その他、Unisem（韓）排ガス除害装置/ Forth-Rite社（米）エンドポイントディテクター / LOT　VACUUM（韓）ドライポンプ（真空ポンプ）/ 三甲（日）半導体ウェハ搬送容器　/　MTI（韓）ウェハー界面活性剤などの実機　/　KEマテリアルズの有機金属材料・サンプル展示を致します。

是非、弊社ブースに来展頂き手に取って御観覧ください。

 出展製品

  • 西村ケミテック　スラリー/ケミカル直前調合供給システム、D/C自動化挿入装置
    当社製品は現場での発生している問題に向き合い解決するというコンセプトで薬供装置設計・製造をしており、ユーザーの課題であるコスト削減、品質向上、設備ライフ延長、装置自動化に貢献しております。 今年は、弊社システムエンジニアリング部の開発装置として、直前調合システム、ドラムキャビネット自動装置、ドラム攪拌装置を展示致します。...

    • ●薬液・スラリー供給システム

    集中供給システムから個別供給システムまで対応可能。リダンダンシ（バックアップシステム）により、トラブル時にも連続しての供給を可能にしました。自社評価機で、様々な評価分析を行う事できる施設を完備しております。

    ●直前調合供給システム

    超純水と、スラリー原液＋添加剤（H202）等をCMP装置直前で調合する装置です。（多液混合）供給濃度の可変も容易、供給中の変更も可能。消費期限、経時劣化等を気にすることなくPure Slurryを供給できます。

    ●D/C自動化システム

    原液供給の自動化を実現、原液ドラムの蓋開けから、チューブ抜き差し、撹拌機等の付帯設備の抜き差しも完全自動化挿入部のフラット化実現し、AGVにも対応したシステムを構築

    メーカー：(株)西村ケミテック

  • LOT VACUUM ドライポンプ（真空ポンプ）
    LOT Vacuumは、半導体およびFPD製造工程で使用される、真空ポンプの開発、製造、販売を行う会社です。 全世界で20,000台以上の販売実績を持ち、韓国半導体市場でのCVD工程では80%以上のシェアを持つNo.1メーカーです。...

    • DuraDry™シリーズは、プロセス副産物のHeavy Duty Application吸引排出する能力に優れ、韓国国内外で6000台以上の納入実績があります。韓国市場の80％以上を占めています。顧客の要望を考慮し、消費電力軽減、低ノイズ、低振動のドライポンプのLD、HDシリーズを開発しました。大型化されているシステムに対応できるようにGD、GHDシリーズも開発しました。現在の市場は、半導体のほか、LCD、LED、太陽電池分野にも対応しています。また、鉄鋼、化学、ガスなどの一般産業分野での需要が増加しています。
  • UNISEM 除害装置
    UNISEMは、韓国を代表する半導体/液晶プロセス向けの除害装置/Chillerメーカーです。特に除害では燃焼式、プラズマ式、ヒーター式、ハイブリッド式など、製造工程や処理ガスの特性、排ガス処理量等に応じ様々な製品を取り揃えております。 ...

    • 半導体及び液晶製造装置から排出される有毒ガス（可燃性ガス）を、·例で挙げた様々な方式で除去する装置です。有毒ガスが十分に除去された状態で工場側のダクトへ排出するシステムです。　

    メーカー：UNISEM.Co.,Ltd.

  • NvisANA 半導体ウェハ金属不純物分析システム
    全自動/ 一体型VPD-ICP-MS システム ウエハー上の金属汚染をsub-ppt レベルで高感度分析が可能な装置です。 高い安全性を持ち、サンプリング、前処理から後洗浄まで自動化した全自動VPD-ICP-MS システムです ...

    • ●NvA-MW300：全自動/一体型VPD-ICP-MSシステム

    -Sampling/VPD/ICP-MSを省スペースの筺体に収めた一体型システム。

    -ICP-MSシステム校正、サンプルチューブの自動洗浄、清浄度の自己診断、
    スキャン溶液、クリーニング溶液の自動調製により前処理、後処理まで自動化。

    -親水面、疎水面のどちらでも測定可能。

    -Full, Radial, Point, Edge, Bevelなど、測定箇所をカスタマイズできます。

    -インターロックシステムと連動したリークセンサーとガス検知器を装備。

    -駆動部、試薬吐出部を筺体に収め、作業者への衝突、被液を防止。

    ●NvA-OW300：Onlineケミカル汚染監視システム

    -Sampling/前処理/測定/後洗浄まで全自動で行うオンライン監視システム

    -測定に人を介さない安全設計

    -メインユニットとサンプリングユニットで構成。最大60chを1つのメインユニットで測定可能

    -バルクケミカル、プロセスケミカル、UPW、プロセスガスの測定が可能

    -インターロックシステムと連動したリークセンサーとガス検知器を装備

    メーカー： NvisANA.Co.,Ltd.

  • TR-RPS/TR-Classic（エンドポイント検出装置）
    ForthRite社の提供するTR-RPS、TR-Classicは、電極ユニットやプロセスチャンバー内で生成したプラズマの電流、電圧、位相角、インピーダンスなどから、成膜プロセスのモニタリングやクリーニングの終点検知を行います。プラズマ状態の常時監視による異常の早期発見による歩留まり向上の他、クリーニングプロセスの最適化により、NF3などのクリーニングガスの削減、プロセスkitの長寿命化等に貢献いたします。...

    • TR-RPS

    -ForeLineに設置した電極ユニット内でプラズマを生成し、電流、電圧、位相角の測定を行う事で、

    クリーニングプロセスの終点検知を行います。また、追加センサの設置により成膜プロセスの監視も可能です。

    TR-Classic

    -マッチングボックスからプロセスチャンバーに接続される、RF伝送路中にセンサを設置し電流、電圧、位相角、実行パワー、インピーダンスの測定を行う事で、成膜プロセスの監視の他、クリーニングプロセスの終点検知を行います。

    メーカー：Forth-Rite Technologies, LLC.

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