サミットスーパーアブレーシブ

高槻市,  大阪府 
Japan
http://www.summit-smdp.com
  • 小間番号1936

各種工業用人工合成ダイヤモンドパウダー(多結晶ダイヤ、類多結晶ダイヤ、単結晶ダイヤ、爆轟ナノダイヤ)、ダイヤモンドビーズ砥粒、CBN砥粒、精密研磨フィルム、ポリッシングスラリーなどをご紹介いたします。


 出展製品

  • 類多結晶ダイヤモンドパウダー
    類多結晶ダイヤモンド(RCDダイヤモンドパウダー)は、単結晶ダイヤモンド砥粒を特殊な表面処理加工した精密研磨用ダイヤモンド粒子です。多結晶ダイヤモンド砥粒に近い性質を持ちます、単結晶ダイヤモンド粒子に比べて、ダイヤモンドパウダーの粒子が微細な切り刃を持つため、研磨効率を向上できます。主にサファイア基板、精密セラミック、SICウェハー、電子部品などの研磨に使用されます。...

  • 仕様

    品番  D10
    (µm) 
    D50
    (µm) 
    D95
    (µm) 
    RCD 2-4  ≥2.1 2.8~3.3 ≤5.0
    RCD 3-5  ≥2.7 3.6~3.9 ≤6.0
    RCD 4-6  ≥3.0 4.0~4.4 ≤7.0
    RCD 8-16  ≥3.6 5.0~5.3 ≤7.5
    RCD 10-20  ≥12.0  17.0~19.0 ≤27.0 

    *規格については、お客様のご要望によりカスタマイズが可能です。

    特徴:

    加工過程中に粒子と加工物の接触点が多く、研磨効率を高める。 

    自鋭性を持ち、研磨持続力が高い。

    微小な切れ刃形状を持ち、表面粗さを抑える。 

    粒子の真球度が高く、スクラッチを抑える。

  • 多結晶ダイヤモンドパウダー
    爆発法多結晶ダイヤモンドパウダーは、特殊な爆発方法で強力な爆発力により、高温、高圧でグラファイトを瞬間的にダイヤモンドに転換させたものです。結晶は天然のCarbonadoに似ています。ヘキ開性がない二次結合した多結晶の粒子構造により、常に新しい切り刃を自生することで、高い研磨レートを得られます、主に高い精度を必要とするラッピングやポリッシング加工には最適です。...

  • 爆発合成から、精製、洗浄、分級、製品まで、すべての工程のクオリティを一括管理しており、お客様の用途やご要望に合った最適な製品をご提案することが可能です。

    仕様

    品番

    グレード

    D10 (µm)

    D50

    (µm)

    D95

    (µm)

    応用

    PCD 1/8

    標準

    ≥0.06

    0.10-0.14

    ≤0.21

    光学結晶体、精密セラミック、SICウェハー、金属表面のポリッシング

    PCD 1/4

    ≥0.11

    0.20-0.25

    ≤0.40

    PCD 0-1

    ≥0.40

    0.48-0.55

    ≤0.72

    PCD 0-2

    ≥0.70

    0.90-1.10

    ≤1.50

    PCD 2-4

    ≥1.80

    2.70-3.00

    ≤4.50

    サファイア、SICウェハーのラッピング、LEDチップの裏面研磨

    PCD 3-6

    ≥2.80

    4.00-4.40

    ≤7.00

    PCD 4-8

    ≥4.00

    5.50-6.00

    ≤8.60

    PCD 5-9

    ≥4.70

    6.30-7.00

    ≤10.00

    PCD 5-12

    ≥5.20

    7.20-7.80

    ≤13.00

    PCD G3

    精密

    ≥2.00

    2.80-3.10

    ≤4.40

    PCD G3.5

    ≥2.40

    3.30-3.60

    ≤5.00

    PCD G4

    ≥2.90

    3.90-4.20

    ≤6.00

    *規格については、お客様のご要望によりカスタマイズが可能です。

    特徴:

    単結晶ダイヤモンド粒子と比較して、より高い研磨速度が得られて、スクラッチが生じにくい。 

    強度が高く、自鋭性を持ち、サファイア、精密セラミックなどのラッピングやポリッシングには最適。 

    耐摩耗性に優れ長寿命。

  • ナノダイヤモンドパウダー
    ナノダイヤモンドパウダーは、不活性な中での爆轟によって作られた人工合成ナノダイヤモンドです。炭素が瞬間的にダイヤモンド結晶に成長したものです。ナノダイヤモンドは、従来のグラファイト静圧転換法による単結晶ダイヤモンドとは違い、角がなく、球形です、一次粒径は約4~7nmになります。主に超精密ポリッシング、メッキ、及びヒートシンクなどの添加剤用途に使用されています。...

  • 仕様

    品番  粒径(D50)  不純物含有量
    DND-30  25-40nm  ≤3% 
    DND-50  40-60nm
    DND-100  85-135nm 
    DND-R  未分級製品、一次粒子 4~7nm

    *規格については、お客様のご要望によりカスタマイズが可能です。

    特徴:

    分散性が高く、品質が安定している。 

    粒度が細かく、比表面積が高い(300-420㎡/g)。 

    不純物含有量が高い(100PPM以下)。

    耐磨耗性、耐腐蝕性、熱伝導性に優れる。

  • 超精密研磨フィルム
    超精密研磨フィルムは、超精密コーティング技術と独自の特許技術を使用して、精選されたミクロンサイズ、ナノサイズの研磨微粉(ダイヤモンド、炭化珪素、アルミナ、シリカ、酸化セリウム)と高分子材料を均一に分散させて、PETフィルムの表面に塗布した精密研磨材です。...

  • 仕様:

    粒径/メッシュ

    ダイヤモンド

    (D)

    炭化ケイ素

     (SC)

    酸化アルミナ

     (AO)

    シリカ

    (SO)

    酸化セリウム

    (CO)

    80µm #180

    60µm #240

    45µm #360

    40µm #400

    30µm #600

    20µm #800

    16µm #1000

    15µm #1200

    12µm #1500

    9µm #2000

    6µm #2500

    5µm #3000

    3µm #4000

    2µm #6000

    1µm #8000

    0.5µm#10000

    0.3µm#15000

    0.01µm

    *規格については、お客様のご要望によりカスタマイズが可能です。

    特徴:

    バラツキが少なく、品質が安定。 

    強度及び柔軟性に優れ、研磨特性を最大限に活かせる。 

    研磨効率が高く、耐久性に優れ、生産コストの低減に寄与できる。 

    乾式研磨にも水及びオイルを使用する研磨にも適用できる。

  • 化合物半導体ポリッシングスラリー
    当社は、炭化ケイ素(SIC)、窒化アルミニウム(AlN)、窒化ガリウム(GaN)、ヒ化ガリウム(GaSa)、リン化インジウム(InP)などの化合物半導体に対応する研磨プロセスと精密研磨材をご提案いたします。...

  • 仕様

    項目

    酸化アルミナ(AO)

    測定方法

    粒度(nm)

    200-500

    レーザー回析散乱法

    粒子形状

    類球状

    SEM

    pH値

    9-13

    pH計

    粘度(cst)

    <20

    粘度計

    濃度(%)

    10-30%

    ---

    特徴

    主にリン化インジウム(InP)とヒ化ガリウム(GaSa)チップの裏面ポリッシュ加工専用に最適されたポリッシングスラリーです。研磨レートが速く、表面状態(Ra、TTV、LTV)が良好で、歩留まりが高いという優れた特性を備えています。