ブース5711でお待ちしております！
当社は、2019年の5月で設立30周年を迎えました。これもひとえに皆様の暖かいご支援、ご愛顧の賜物と心から感謝いたします。つぎの30年に向け、新たな未来の価値を創り出すべく邁進してまいります。
展示では、化合物半導体デバイス生産で世界中のお客様にご使用頂いている「ＥＣＲプラズマ成膜装置」および「原子層堆積装置」に加え、Temescal division of Ferrotec (USA) Corporation製の高効率な電子ビーム蒸着装置を紹介いたします。又、ECRプラズマ成膜装置では、従来のスパッタリング方式に加え、ECR-CVD装置の紹介も出展しております。