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アルバックブースでは、持続可能な社会を実現するアルバックの真空技術を6つのエリアに分けてご紹介いたします。
高い生産性を誇り環境に配慮しながら進化を続ける半導体製造装置ENTRONシリーズをはじめ、半導体後工程、SiC&GaNパワーデバイス、5G・RFデバイス向けの製造装置をご紹介致します。
また、Oxford Instruments社のALD・ALEプロセスソリューションをご提案します。
関連する半導体用ターゲットや真空コンポーネントも取り揃えております。
アルバック・グループ一同、皆様のお越しをお待ち申し上げております。
特長
以下一例です。
・優れたエッチング深さ制御
・滑らかなエッチング表面
・低ダメージプロセス
・デジタル/サイクル・エッチングプロセス-ALDと同様のサイクル毎のエッチング
・高選択性
・最大200mmのウェハー処理が可能
・高アスペクト比エッチングプロセス
・ナノスケール層のエッチング