大日本科研

向日市,  京都府 
Japan
http://www.kakenjse.co.jp
  • 小間番号4934


当社の展示ブース(小間番号:4934)では、前工程の重要なプロセスとなる露光装置についてパネル・動画を展示しております。

株式会社大日本科研では、半導体・電子部品用露光装置をメインに、設計・製作からメンテナンスまで一貫したサービスを行っております。今回はφ200/300mm対応のマスクアライナーや、フォトマスクを必要としないマスクレス露光装置をメインとして、各種露光装置をパネルや動画にて展示・ご紹介いたします。露光装置をお探しの方、また露光工程でお困りの方がおられましたら、是非弊社ブースにお立ち寄りください。皆様のご来場を心よりお待ちしております。


 出展製品

  • Maskless露光装置(MX-SERIES)
    フォトマスクを必要とせず、マスクデータを直接描画。 独自の露光方式で解像性能1μm(データ分解能:0.05μm)までのがラインナップあり、斜め線、曲線をフォトマスクと遜色なく滑らかにパターニングが可能。 ...

  • 〈特徴〉
    ・マスクレス露光装置MX-1000シリーズは、研究開発・試作・小ロット生産などの用途にダイレクトイメージ露光をご提供いたします。
    ・MX-1000シリーズは、ハイエンドPCB、高密度パッケージング、フラットパネルディスプレイなどをはじめ、MEMS等の微細加工分野でご使用いただけます。
    ・ダイレクトイメージ露光は、リソグラフィ工程でのフォトマスクを必要とせず、開発コストやマーケットへの時間差を最小限に抑えます。
  • フィルム用露光装置(ROLL to ROLL)
    基材幅最大800mmまで対応した縦型両面一括露光装置で、フレキシブルで薄く軽量なデバイスの大量生産を実現します。...

  • 〈特徴〉
    ・縦型露光による基材の低テンションシステム
    ・マスクと基材のオートアライメントによる多層露光が可能
    ・マスク冷却に対応可能 (オプション)
    ・タッチパネル、FPC、有機EL照明、電子ペーパー、太陽電池、他 量産用
  • Compact Mask Aligner(MA-1200A)
    少量、多品種のデバイス生産、試作に最適なセミオートの露光装置。...

  • 〈特徴〉
    ・多品種・小ロット生産や実験・研究に最適な手動露光装置。(有効露光範囲φ6 inch)
    ・独自のミラー・レンズ光学系と高速画像処理を搭載。裏面アライメント機能搭載
    ・カット基板・割れ基板のアライメント露光が可能 (単眼アライメント可能)
    ・4つの露光モードに対応 (プロキシミティ,ソフトコンタクト,ハードコンタクト,バキュームコンタクト)
    ・フットプリントを縮小することで省スペースを実現。座っての作業も可能
  • DESKTOP Mask Aligner(DA-1000)
    φ4"までの基板サイズに対応した完全マニュアルの露光装置。 コンパクトなサイズ(600mm×600mm)に仕上げ、光源にはLEDを採用。...

  • 〈特徴〉
    ・実験・研究用途に最適
    ・デスク上に設置可能なコンパクト設計(600×600㎜)
    ・UV-LEDランプハウス標準搭載(有効露光範囲Φ4")
    ・コンタクト露光タイプ(オプションで他の露光モード対応可)
    ・完全手動操作でリーズナブルな価格
  • Mask Aligner(MA-4000)
    500台以上の実績を誇る、ローダ、アンローダ搭載のフルオートの露光装置。 ウエハの搬送は当然ながら、角型、薄板などの異形基板の自動搬送も多数実績あり。...

  • 〈特徴〉
    ・独自の高速画像処理技術でウェハとマスクを高精度にアライメント
    ・オートマスクチェンジャを搭載。マスクライブラリ対応可能
    ・非接触型プリアライナを搭載。基板を傷つけることなく高精度な送り込みを実現
    ・独自の平行補正機構により、マスクとウェハ間のプロキシミティギャップを高精度に制御
    ・独自のミラー工学系ランプハウスを搭載。照射面内均一性、高精度を実現
    ・ローダ、アンローダ側にカセットを各2個までセット可能(オプション)
    ・冷却機構により基板ステージとマスクの温度管理が可能(オプション)