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SPPテクノロジーズ株式会社は、MEMS・半導体製造に不可欠なSi深掘り装置（DRIE）にて、2021年6月で発売27年目を迎えたトップメーカーとして、英SPTS社と共に蓄積した経験を紹介します。
新開発プラズマ源を搭載したSi DRIE装置をはじめ、化合物エッチング、犠牲層エッチング、厚膜PECVD、圧電薄膜スパッタ等の取り扱い装置を紹介します。
MEMSや光化合物半導体、パワー半導体や3次元実装などの製造へ向けたソリューションを提案いたします。