日本レーザー

新宿区,  東京都 
Japan
https://www.japanlaser.co.jp
  • 小間番号5622


レーザー光と光学を応用した新しい検査/解析技術の他、装置や設備に組み込み可能な測定、計測技術を紹介致します。

ガラス基板、シリコン・ウェハ、フォトマスク、ハードディスク基板上の欠陥、異物の検査、解析を目的とした以下の2種類の装置を提案致します。

  • 高速レーザー・スキャニング欠陥検査装置              /Lumina Instruments製              
  • AFM-IR式ナノスケール異物解析装置                     /Molecular Vista製

その他、以下の製品も併せて紹介致します。

  • クリーンルーム対応組込み3D測定ヘッド                 /SENSOFAR製
  • 超高真空対応、組み込み用レーザー干渉式変位センサ/attocube製
  • 超高真空、非磁性対応ナノ位置決めステージ      /attocube製
  • 半導体リサーチ用AFM(各種電気特性測定に対応   /CSI製


 出展製品

  • 基板用 高速欠陥検査イメージング装置
    基板全⾯のエリアを対象として、膜厚サブナノメートルオーダーの膜⽋陥をイメージングできます。わずか30秒で50mm x 50mmの基板の測定およびデータ表⽰まで⾏う⾼速測定が可能。検査対象は、透明膜、シリコン、化合物、⾦属基板で、⾮円形や壊れやすいサンプルにも対応します。透明な基板については表⾯・裏⾯の同時観察、かつ表裏の分離が可能です。...

  • 最⼤⾛査範囲 300 x 300mm、最⼤サンプル厚さ 10mmの⼤型基板⽋陥検査装置

    • 欠陥イメージング
    • 基板全面のエリアで感度5オングストローム(0.5 nm)を維持
    • わずか30秒で50 mm x 50 mmのフルスキャン&データ表示
    • 透明膜、シリコン、化合物、金属基板を検査可能
    • 非円形や壊れやすいサンプルに対応
    • 透明な基板については表面・裏面の同時観察、かつ表裏の分離が可能
    • 耐振動性

    導⼊例や測定サンプルイメージはこちらをクリックしてご覧ください。

  • AFM-IR / PiFM ナノケミカルイメージング
    次世代AFM-IR技術、PiFM(Photo-induced force microscope:光誘起力顕微鏡)を採用しています。サンプルの種類を問わず、世界最高の空間分解能 < 10mmのケミカルイメージングを実現した現在最も先進的なナノスケール赤外分析装置です。...

  • 空間分解能 < 10mm のケミカルイメージング

    • サンプルの種類を問わず空間分解能10nmのケミカルイメージング
    • 深い部分のシグナルは検出せず、最表面のみの情報を取得
    • ブロック状のサンプルでも空間分解能に影響なし
    • 全ピクセルでスペクトルを取得する高速hyPIR™イメージング機能搭載
    • ダイポールフォースの検出により、バックグラウンドノイズなし

    Molecular Vista社のケミカルイメージング装置は、次世代のAFM-IR技術、PiFM(Photo-induced force microscope:光誘起力顕微鏡)を採用しています。ブロック状のサンプルでも空間分解能に影響がないため、サンプルを切片化する必要がありません。1点当たり0.1秒の高速でのスペクトル取得が可能です。また視野内の全ピクセルでスペクトルを取得するhyPIR™イメージングモードにより、未知の試料分析に貢献します。

  • ナノ位置決めステージ&レーザー⼲渉式変位センサ
    attocube社のナノ位置決めステージとレーザー干渉式変位センサで高精度なモーション・コントロールを提供します。ナノ位置決めステージは、レーザー干渉式変位センサとの組み合わせでクローズド・ループでの制御が可能です。 ナノ位置決めステージはUHV環境、高磁場環境また非磁性に対応。レーザー干渉式変位センサは、光ファイバでセンサ・ヘッドを本体に接続するモジュール式のコンパクト・デザインを採用し、センサ・ヘッドを遠隔に配置できることから、高温やUHV、高磁場など極限環境下での測定を可能にしています。...

  • ナノ位置決めステージ
    ⾼精度ピエゾ駆動モータおよび位置決め製品。450°に至る高温、超⾼真空、高磁場等の極限環境そして、非磁性に対応。ナノメートルの高い精度で、センチメートルオーダーの広い可動範囲の位置決め動作を提供します。

    ステージの種類は、直進(リニア)、回転、ゴニオメトリック、スキャナーがあり、いずれのステージ種類にも位置センサ内蔵のクローズドループ制御モデルがございます。モジュール式設計のため、個々のステージ(リニアド、回転、ゴニオ)を組み合わせて、最大6軸までのマルチアクシス(多軸)システムを構築できます。お客様のニーズに合わせた統合ナノポジショニングソリューションの開発も、同社の経験豊富な熟練のエンジニアがお手伝いいたします。

    レーザー⼲渉式センサ
    ファブリーペロー⼲渉計に基づいたセンサで、さまざまな材料や形状に対して1pm分解能、数ミリメートルから最大5mまでの作動距離を実現。更に専用のソフトウェアとセンサヘッドの使用で最長30メートルまで測定距離を拡張可能です。特許取得済みのファイバーベース技術で、モジュール式のセットアップと⾮常にコンパクトなセンサヘッドが特⻑。多様な材質や極端環境(超⾼真空、極低温、⾼磁場)にも対応できます。

    また、広範なデジタルおよびアナログのリアルタイムインターフェースとプロトコルにより、位置データの送信を間便化。リアルタイムデータ通信用の高速インタフェースには、AquadB、独自のシリアルワード(HSSL)、合成アナログ sin / cos /リニアアナログ出力信号がありご利用可能です。 信号は全て、シングルエンド(LVTTL)または差動(LVDS)のいずれかとして出力できます。

  • 組込み3D測定ヘッド
    Sensofar社の組込み3D測定ヘッドは、3つの測定技術(共焦点・焦点移動・光干渉)により、非破壊でサンプル表面の微細な3D形状や粗さを測定します。クリーンルーム環境への対応も可能です。...

  • 非接触で3D微細形状・表面粗さを測定

    • クリーンルーム環境に対応
    • S mart:共焦点、光干渉、焦点移動の3方式を搭載した多機能モデル
    • S onix:高速光干渉モデル
    • 自動解析ソフトウェア SensoPRO
    • ソフトウェア開発キットSDK提供

    今までオフライン/手作業で実施していた測定をオンライン/自動化するなど、任意の用途にセンサを組み込むことができます。ソフトウェア開発キットSDKにより、ユーザーは他の装置と組み合わせたシステム用のユーザーアプリケーションを独自に開発することができます。

  • Nano-Observer AFM ナノオブザーバーAFM
    Nano Observer AFMは、半導体リサーチに最適な原子間力顕微鏡です。最先端のC-AFMやKFM機能を備え、他機種では対応できない高精細なKFMや、傷つきやすいサンプルの各種C-AFM測定が可能です。また、sMIMにも対応します。4インチウエハ対応モデルもございます。...

  • 多種の測定モード・環境制御に優れた高性能の原子間力顕微鏡

    • HD-KFM 高精細シングルパスケルビンフォース顕微鏡
    • ダイナミックレンジ10桁の電流増幅器 ResiScope レジスコープ(アドバンスドC-AFM)
    • ソフトインターミッテントコンタクト・コンダクティブAFMイメージング
    • サイドビューとトップビューカメラによる容易な位置決め
    • 簡単な操作性とソフトウェア
    • 三軸独立の高精度スキャナー<100µm
    • 温度制御・環境制御下での電気特性測定