最先端の半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会の発展に貢献します。
MBM™-2000
3nm Nodeデザインルール対応マルチ電子ビームマスク描画装置
EBM-9500PLUS
7nm+/5nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-9500
7nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-9000
10nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-8000P/H
16/14nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
EBM-8000P/M
45～20nm Nodeデザインルール対応電子ビームマスク描画装置
NPI-8000
高生産性と高性能を兼ね備えた
10/7nm Node 検査時間:60分／100mm角に対応した最先端マスク検査装置
EPIREVO™ G8
GaNパワーデバイス(HEMT)の生産に最適な150/200mm 枚葉式GaN-on-Si用MOCVD装置
EPIREVO™ S6
低欠陥・高速成長でSiCパワーデバイスの低コスト生産を実現する150mm 枚葉式 SiC Epi 装置