パーク・システムズ・ジャパン株式会社でございます。
弊社は原子間力顕微鏡AFMの専門メーカーです。
≪IMECが認めた革新的なAFM≫
2015年2月、パーク・システムズ社は、ナノエレクトロニクス研究センターIMECとの共同開発プロジェクトの契約に調印し、IMECのインダストリアル・アフリエーション・プログラム（IIAP）に公式に参加、IIAFPのメンバーになりました。
半導体デバイスパターンの微細化・構造の複雑化に伴い、計測装置全般に、粗さ、高さ、幅、角度等、測定に求められる精度がより厳しくなってきている中、従来のAFM技術ではこれからの半導体デバイスのR&Dに対処できないと判断され『革新的なAFM』を提供するパーク・システムズ社が選ばれました。
≪高生産性インラインウエハファブ用AFM NX-Wafer≫
１．低ノイズ原子間力プロファイラーで正確且つ高スループットなCMP計測を実現
市場で最高の低ノイズを誇るPark AFMと長距離スライディン グステージとの組み合わせにより化学機械研磨(CMP)の計測に対応した原子間力プロファイラ(AFP)が完成しました。
２．欠陥のイメージングと解析を完全自動で行うAFM計測手法により、欠陥検査における生産性を向上
新しい300mmベア ウエハの自動欠陥検査(ADR)は、サンプル ウエハ上にマーキングすることなく欠陥のサーベイスキャンと拡大再スキャンを行うユニークな機能を持ち、画像データの転送やアライメントも完全に自動で行うことができます。
３．非常に正確で、チップーチップ間のバラツキも最小にしたサブÅ表面粗さ計測
最新技術のデバイスメーカー において、チップ メーカーとウエハ サプライヤのどちらにおいても、SiまたはSOIウエハの超平坦面に対して更に正確な粗さ制御を必要としています。
0.5Å 以下という業界最小ノイズフロアと完全ノンコンタクト™モードと組み合わせた技術により、微小粗さから広範囲のうねり計測においても、非常に正確で再現性のある表面計測が可能です。
≪電気特性測定・故障解析評価に最適な新型真空AFM NX-Hivac≫
１．半導体・電子材料の電気特性及び故障解析評価に最適
AFMによる電気特性計測モードには、SCM（キャパシタンス顕微鏡）、SSRM（拡がり抵抗法顕微鏡）、iAFM(コンダクタンスＡＦＭ）等があります。
なかでもSSRMは、真空環境下で測定すると、試料へのチップ触圧も小さくでき、データ空間分解能も非常に向上し、安定した繰り返し測定が可能となります。
不活性ガスの雰囲気での測定手法も大気中よりは改善されますが、ＡＦＭによるナノスケール電気特性計測は真空環境化が最適です。
２．大型真空チャンバー、マルチプル試料台、電動ステージ
従来のAFM用真空チャンバは、一般にサイズが小さく、操作性もあまりよくありませんでした。
特に複数の試料を同時にセットして自動計測を行うようなシステムの提供はされていませんでした。
NX-Hivacは、最大5試料まで同時にセットでき、自動ステージにより複数の試料を連続測定が可能です。
３．StepScanとSmartScanで簡単に連続自動計測
大気中の大型試料用ＡＦＭで長年採用されてきた連続自動測定機能の"StepScan"と、初心者でも熟練したエンジニア・研究者と同じ品質のイメージングを簡単な操作で可能にした"SmartScan"機能が標準搭載されています。
これにより、真空ＡＦＭであるにもかかわらず非常に操作性良くスループットの高い運用が可能になっています。
≪高分解能3Dメトロロジー用全自動AFM NX-3DM≫
１．フレアチップ法の課題を克服
NX-3DMは、分離されたXYとZ走査システムは、傾斜したＺスキャナーとともに、正確な側壁分析におけるフレアチップ法の課題を克服し、フォトレジストのアンダーカット構造とオーバーハング構造に独自の方法でアクセスし、アンダーカットやオーバーハング形状のCD計測、オーバーハングプロファイル、高解像度の側壁イメージング、臨界角測定の非破壊全自動測定を実現しました。