◆活性化アニール装置 Ailesic-2000
<特徴>
・最高温度2,000℃までのSiC活性化アニールに対応
・超急速昇降温特性を実現
・安定したプロセス性能
<アプリケーション>
活性化アニール
◆熱処理装置 Ailesic-1400/1500/1700
<特徴>
・最高温度1,400℃/1,500℃/1,670℃のSiC超高温熱処理に対応
・In situ Cleaning他、独自技術により超高純度プロセスと高稼働を両立
・高純度/高真空/高温プロセスにおける急速昇降温に対応
・独自開発長寿命ヒータ/炉内治具により大幅なランニングコスト低減を実現
<アプリケーション>
・酸化 (O2)
・Post Oxidation Anneal(N2O, NO)
・アニール (N2, Ar)